恭喜京东方晶芯科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司李健获国家专利权
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龙图腾网恭喜京东方晶芯科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请的专利背光模组及其制备方法和显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113189816B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110577658.9，技术领域涉及：G02F1/13357；该发明授权背光模组及其制备方法和显示装置是由李健;李沛;翟明;李金鹏;张树柏;张腾;曹鹏军;杨志富设计研发完成，并于2021-05-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本背光模组及其制备方法和显示装置在说明书摘要公布了：本发明涉及一种背光模组及其制备方法和显示装置。所述背光模组，包括：至少两个相邻设置的灯板；灯板包括基板、发光元件与挡墙结构，发光元件与挡墙结构分别位于基板上，且位于基板的同一侧；相邻的两个灯板的基板之间设置有缝隙；调节件，至少部分设置于缝隙中；调节件的材料特性与挡墙结构的材料特性基本相同。根据本发明的实施例，可以有利于减弱或消除拼缝暗影，提升显示效果。
本发明授权背光模组及其制备方法和显示装置在权利要求书中公布了：1.一种背光模组，其特征在于，包括：至少两个相邻设置的灯板；所述灯板包括基板、发光元件与挡墙结构，所述发光元件与所述挡墙结构分别位于所述基板上，且位于所述基板的同一侧；每个所述发光元件均被所述挡墙结构环绕；相邻的两个所述灯板的所述基板之间设置有缝隙；调节件，至少部分设置于所述缝隙中；所述调节件的材料特性与所述挡墙结构的材料特性基本相同；当所述调节件的反射率大于所述挡墙结构的反射率时，所述调节件远离所述基板的表面为凸面；当所述调节件的反射率等于所述挡墙结构的反射率时，所述调节件远离所述基板的表面为平面；当所述调节件的反射率小于所述挡墙结构的反射率时，所述调节件远离所述基板的表面为凹面。
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