恭喜北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)曲越奇获国家专利权
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龙图腾网恭喜北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)申请的专利一种曝光设备的物镜光轴位置确定方法、装置及电子设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114637171B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210237477.6，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种曝光设备的物镜光轴位置确定方法、装置及电子设备是由曲越奇;张叶;王镇辉;向松;秦建新设计研发完成，并于2022-03-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种曝光设备的物镜光轴位置确定方法、装置及电子设备在说明书摘要公布了：本申请提供了一种曝光设备的物镜光轴位置确定方法、装置及电子设备，该方法包括：利用传感器检测第一投影光斑的能量值，确定处于第一投影光斑范围内的物镜光轴的基准位置；利用传感器检测第二投影光斑的能量值，确定处于第二投影光斑范围内的目标位置；基于目标位置，利用搜索算法确定处于第二投影光斑范围内的物镜光轴的偏移位置；确定偏移位置相对于基准位置的偏移距离，利用偏移距离确定单独使用第二掩模版时物镜光轴的位置。通过采用上述物镜光轴位置确定方法、装置及电子设备，解决了在测量物镜光轴位置时，因每次都使用工装掩模版进行测量而带来的测量过程繁琐以及测量效率低的问题。
本发明授权一种曝光设备的物镜光轴位置确定方法、装置及电子设备在权利要求书中公布了：1.一种曝光设备的物镜光轴位置确定方法，其特征在于，包括：利用传感器检测第一投影光斑的能量值，确定处于第一投影光斑范围内的物镜光轴的基准位置，所述第一投影光斑是光源发射的光束依次穿过第一掩模版中心通光孔以及物镜后形成的光斑；利用传感器检测第二投影光斑的能量值，确定处于第二投影光斑范围内的目标位置，所述第二投影光斑是光源发射的光束依次穿过第二掩模版中心通光孔以及物镜后形成的光斑，所述第二掩模版的生产精度低于第一掩模版的生产精度；基于所述目标位置，利用搜索算法确定处于第二投影光斑范围内的物镜光轴的偏移位置；确定所述偏移位置相对于所述基准位置的偏移距离，利用所述偏移距离确定单独使用第二掩模版时物镜光轴的位置。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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