买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网恭喜中国工程物理研究院激光聚变研究中心;西南科技大学申请的专利一种提升抗激光损伤能力的熔石英元件表面联合处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116462418B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310510158.2，技术领域涉及：C03C15/00；该发明授权一种提升抗激光损伤能力的熔石英元件表面联合处理方法是由孙来喜;何洪途;邹蕊矫;刘新祺;余家欣;郑天然;王方;李青山设计研发完成，并于2023-05-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种提升抗激光损伤能力的熔石英元件表面联合处理方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种提升抗激光损伤能力的熔石英元件表面联合处理方法，包括：将熔石英元件在乙醇中超声清洗，去除掉表面的灰尘和油渍，然后将熔石英元件置于去离子水中超声清洗；将清洗后的熔石英元件置于平行板放电蚀刻器中进行反应离子刻蚀，刻蚀后采用无机酸对元件表面进行清洗，然后用去离子水清洗并晾干；将清洗好的熔石英元件置于高温退火炉中，进行高温退火处理；将高温退火处理之后的熔石英元件置于H2O2刻蚀器中进行二次刻蚀；将刻蚀后的熔石英元件进行去离子水和乙醇清洗。本发明通过组合刻蚀的方法较好的修复了熔石英元件表面的缺陷同时改善表面质量，从而有效提高了熔石英元件表面的激光损伤阈值。

本发明授权一种提升抗激光损伤能力的熔石英元件表面联合处理方法在权利要求书中公布了：1.一种提升抗激光损伤能力的熔石英元件表面联合处理方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一、将熔石英元件在乙醇中超声清洗，去除掉表面的灰尘和油渍，然后将熔石英元件置于去离子水中超声清洗；步骤二、将步骤一清洗后的熔石英元件置于平行板放电蚀刻器中进行反应离子刻蚀，刻蚀后采用无机酸对元件表面进行清洗，然后用去离子水清洗并晾干；步骤三、将清洗好的熔石英元件置于高温退火炉中，进行高温退火处理，退火腔内气氛为干燥空气或者氮气，退火温度为400~800℃，退火时间为1~20h；步骤四、将高温退火处理之后的熔石英元件置于H2O2刻蚀器中进行二次刻蚀，H2O2的质量分数为5%~50%；步骤五、将步骤三刻蚀后的熔石英元件进行去离子水和乙醇清洗，操作步骤和步骤一相同。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中国工程物理研究院激光聚变研究中心;西南科技大学，其通讯地址为：621000 四川省绵阳市科学城绵山路64号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。