恭喜华海清科股份有限公司;清华大学张力飞获国家专利权
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龙图腾网恭喜华海清科股份有限公司;清华大学申请的专利一种化学机械抛光液和化学机械抛光方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116606595B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310513145.0，技术领域涉及：C09G1/02；该发明授权一种化学机械抛光液和化学机械抛光方法是由张力飞;王同庆;王淑慧;路新春设计研发完成，并于2023-05-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种化学机械抛光液和化学机械抛光方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种化学机械抛光液和化学机械抛光方法，所述化学机械抛光液包括磨料、氧化剂、络合剂、缓蚀剂、表面活性剂和水；其中，所述表面活性剂包括脂肪醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚、聚乙烯吡咯烷酮、八苯基聚氧乙炔或吐温‑80中的任意一种或至少两种的组合。本发明在抛光液中加入合适的表面活性剂，能够改善抛光液的分散稳定性，使表面活性剂吸附在磨粒的表面，从而改变磨料的表面性质，可有效去除抛光过程中的有机物残留和颗粒污染等，而且为第二步精抛提供了更好的抛光基础，防止粗抛后的残留物在精抛过程中对晶片造成损伤。
本发明授权一种化学机械抛光液和化学机械抛光方法在权利要求书中公布了：1.一种用于粗抛钴互连晶圆结构的化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液由磨料、氧化剂、络合剂、缓蚀剂、表面活性剂和水组成；其中，所述磨料为采用烷氧基硅烷水解方式制备的胶体二氧化硅，其中二氧化硅微粒的直径为10nm-200nm；所述氧化剂包括过氧化氢、过氧乙酸、过硫酸钾或过硫酸铵中的任意一种或至少两种的组合，所述络合剂包括柠檬酸、甘氨酸或乙二胺四乙酸中的任意一种或至少两种的组合，所述缓蚀剂包括1,2,4-三氮唑、油酸钾或1-苯基-5-巯基四氮唑中的任意一种或至少两种的组合，所述抛光液的pH值为9.5-11；所述表面活性剂由壬基酚聚氧乙烯醚和聚乙烯吡咯烷酮组成，所述表面活性剂的浓度为500-1500ppm，所述壬基酚聚氧乙烯醚和所述聚乙烯吡咯烷酮的浓度比为1:1-3。
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