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龙图腾网恭喜湖南新锋科技有限公司申请的专利一种掺杂金刚石-氧化钌耦合电极及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115369442B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211070904.2，技术领域涉及：C25B11/091；该发明授权一种掺杂金刚石-氧化钌耦合电极及其制备方法和应用是由伍水平;魏秋平;王剑;谭际麟;黄开塘;罗浩;王宝峰;蔡群欢;陈大伟;张维设计研发完成，并于2022-09-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种掺杂金刚石-氧化钌耦合电极及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种掺杂金刚石‑氧化钌耦合电极及其制备方法和应用，所述掺杂金刚石‑氧化钌耦合电极包括基底以及设置于基底表面的电极工作层，所述电极工作层为双层膜结构，从下至上，依次为氧化钌膜层和掺杂金刚石膜层，所述氧化钌膜层中添加有掺杂金刚石颗粒。该种耦合电极结合了氧化物涂层电极和掺杂金刚石电极的优势，同时具有异质结效应，具备良好的导电性、耐腐蚀性和机械强度，可用于电催化污水降解、化学电池正极轻质板栅、电化学合成、电信号探测、尾气处理及其他相关电化学领域。

本发明授权一种掺杂金刚石-氧化钌耦合电极及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种掺杂金刚石-氧化钌耦合电极，其特征在于：所述掺杂金刚石-氧化钌耦合电极包括基底以及设置于基底表面的电极工作层，所述电极工作层为双层膜结构，从下至上，依次为氧化钌膜层，掺杂金刚石膜层，所述氧化钌膜层由氧化钌基体，以及均匀分散于氧化钌基体中的掺杂金刚石颗粒组成；所述氧化钌膜层的厚度为10-120μm，掺杂金刚石膜层的厚度为5-20μm；所述掺杂金刚石-氧化钌耦合电极制备方法为先于基底表面通过电沉积法或复合热分解法制备氧化钌膜层，再通过化学气相沉积制备掺杂金刚石膜层即得双层膜耦合电极；所述电沉积法制备氧化钌膜层的过程为：以金属为阳极，基底作为阴极置于电解液中进行电沉积，然后进行热处理即得，所述电解液包含如下成份：三氯化钌1～10gL，氯化钾3～10gL，盐酸1～5gL，掺杂金刚石颗粒0.1-50gL；所述电沉积的参数为：电流密度为200-1000Am2，电解液的温度为35～60℃，电沉积的时间为10～120min；所述热处理的温度为100℃～300℃，热处理的时间为1～5h，升温速率为5℃～10℃min，真空度为1-100pa，氩气气氛流量为20-50sccm；所述复合热分解法制备氧化钌活性膜层的过程为：将50-150gL的三氯化钌、10-50gL的水合氧化钌溶解于醇类溶剂获得混合液，混合液中加入掺杂金刚石颗粒混合均匀，获得浆料，所述金刚石颗粒与混合液的质量比为0.05～250：1000；通过制膜将浆料均匀设置于基底上，然后置于烘箱中50-80℃烘10-30min，再放入电阻炉中450-650℃焙烧10-30min，反复操作8-20次，最后一次在电阻炉中焙烧1-2h即得。

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