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龙图腾网恭喜深圳市宇创显示科技有限公司申请的专利多层复合偏光片的性能优化设计方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119439495B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510035544.X，技术领域涉及：G02B27/00；该发明授权多层复合偏光片的性能优化设计方法及系统是由赵金宝;赵金强;解蕊设计研发完成，并于2025-01-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本多层复合偏光片的性能优化设计方法及系统在说明书摘要公布了：本申请涉及偏光片性能优化技术领域，公开了一种多层复合偏光片的性能优化设计方法及系统，该方法包括：对显示屏的使用环境进行偏振光谱分析，获得入射偏振光谱数据，并计算各偏光层的初始拉伸比数据；测量得到每个偏光层的分子取向度数据和偏振性能数据；进行特征提取和融合，得到每个偏光层的融合特征向量；计算各偏光层分子取向度变化对不同偏振态光学性能的影响，得到每个偏光层的偏振态重要性权重；进行强化学习优化，生成每个偏光层的拉伸比调整策略；对各偏光层的加工参数进行多目标优化和序列二次规划，生成各偏光层的拉伸温度和速度控制序列，进而实现了拉伸温度和速度的精确控制，提升了偏光片的性能指标和生产效率。

本发明授权多层复合偏光片的性能优化设计方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种多层复合偏光片的性能优化设计方法，其特征在于，所述方法包括：对显示屏的使用环境进行偏振光谱分析，获得入射偏振光谱数据，并计算各偏光层的初始拉伸比数据；分别对样本产品的各偏光层进行生产过程数据测量，得到每个偏光层的分子取向度数据和偏振性能数据；分别将每个偏光层的分子取向度数据和偏振性能数据输入双域和全局上下文特征提取网络进行特征提取和融合，得到每个偏光层的融合特征向量；基于所述融合特征向量，计算各偏光层分子取向度变化对不同偏振态光学性能的影响，得到每个偏光层的偏振态重要性权重；根据所述偏振态重要性权重，对所述初始拉伸比数据进行强化学习优化，生成每个偏光层的拉伸比调整策略；基于所述拉伸比调整策略对各偏光层的加工参数进行多目标优化和序列二次规划，生成各偏光层的拉伸温度和速度控制序列。

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