恭喜首尔半导体株式会社竹谷元伸获国家专利权
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龙图腾网恭喜首尔半导体株式会社申请的专利发光装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111092096B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201911273979.9，技术领域涉及：H10H29/32；该发明授权发光装置是由竹谷元伸;孙成寿;李宗益;林栽熙;蔡钟炫;洪承植设计研发完成，并于2018-12-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本发光装置在说明书摘要公布了：本公开涉及一种发光装置。根据本公开的一实施例的显示装置可以包括：基板；像素，提供于所述基板上，所述像素包括：光通过层，提供于所述基板上，并且具有上表面和侧面；发光元件，提供于所述光通过层的上表面；绝缘膜，覆盖所述发光元件和所述光通过层的上表面和侧面；以及端子部，提供于所述绝缘膜上，并与所述发光元件电连接。
本发明授权发光装置在权利要求书中公布了：1.一种发光装置，其中，包括：具有透光性的基板；像素，提供于所述基板上，所述像素包括：光通过层，提供于所述基板上，并且具有上表面和连接所述基板与上表面的侧面；发光元件，提供于所述光通过层的上表面；绝缘膜，覆盖所述发光元件和所述光通过层的上表面和侧面；反射层，提供于所述绝缘膜和所述光通过层的侧面之间，并由金属材料构成；以及端子部，提供于所述绝缘膜上，并与所述发光元件电连接，其中，通过所述发光元件射出的光透过所述基板，其中，所述绝缘膜包括：第一绝缘膜，提供于所述基板上；以及第二绝缘膜，以不同于所述第一绝缘膜的材料提供于所述第一绝缘膜上，所述第一绝缘膜被提供于光通过层之间的非像素区域，所述第二绝缘膜被提供于所述光通过层和所述发光元件上，所述反射层被提供于所述第一绝缘膜与所述光通过层的侧面之间。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人首尔半导体株式会社，其通讯地址为：韩国京畿道安山市；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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