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恭喜科磊股份有限公司刘学峰获国家专利权

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龙图腾网恭喜科磊股份有限公司申请的专利利用空间变化偏振转子及偏振器进行敏感性粒子检测获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115684203B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-02发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211361414.8,技术领域涉及:G01N21/95;该发明授权利用空间变化偏振转子及偏振器进行敏感性粒子检测是由刘学峰;J-K·龙;D·卡瓦德杰夫;J·费尔登设计研发完成,并于2020-02-10向国家知识产权局提交的专利申请。

利用空间变化偏振转子及偏振器进行敏感性粒子检测在说明书摘要公布了:本申请实施例涉及利用空间变化偏振转子及偏振器进行敏感性粒子检测。一种暗场检验系统可包含:照射源,其用以产生照射束;照射光学器件,其经配置以将所述照射束沿着照射方向以离轴角度引导到样本;聚光光学器件,其用以在暗场模式中响应于所述照射束而聚集来自所述样本的散射光;偏振转子,其位于一或多个聚光光学器件的光瞳面处,其中所述偏振转子提供被选择成将从所述样本的表面散射的光旋转到选定偏振角度的空间变化偏振旋转角度;偏振器,其经对准以拒斥沿着所述选定偏振角度发生偏振的光来拒斥从所述样本的表面散射的光;及检测器,其用以基于来自所述样本的由所述偏振器传递的散射光而产生所述样本的暗场图像。

本发明授权利用空间变化偏振转子及偏振器进行敏感性粒子检测在权利要求书中公布了:1.一种检验方法,其包括:响应于已知偏振呈已知入射角度的照射束而接收从样本的表面散射的光的电场分布;设计适合于放置于成像系统的光瞳面处的偏振转子以提供空间变化偏振旋转角度,所述空间变化偏振旋转角度被选择成将具有所述电场分布的光的偏振旋转到选定偏振角度,其中所述偏振转子包含具有与所述光瞳面垂直定向的光轴的光学活性材料,所述光瞳面基于旋光性而在所述光瞳面内旋转光的偏振,其中所述光学活性材料具有基于所述电场分布的跨越所述光瞳面的空间变化厚度以将从所述样本的所述表面散射的所述光旋转到所述选定偏振角度;及利用具有位于所述光瞳面中的所述偏振转子及经对准以拒斥沿着所述选定偏振角度发生偏振的光的线性偏振器的所述成像系统来产生样本的暗场图像,其中所述暗场图像基于由所述偏振器传递的光。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人科磊股份有限公司,其通讯地址为:美国加利福尼亚州;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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