恭喜东京毅力科创株式会社吉田博司获国家专利权
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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利基片处理装置及基片处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111755362B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010221812.4，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基片处理装置及基片处理方法是由吉田博司设计研发完成，并于2020-03-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片处理装置及基片处理方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种基片处理装置及基片处理方法。一种基片处理装置，其具有：混合部，其按预定的混合比混合作为处理液的原料的第一磷酸与添加剂来调配混合液；修正所述处理液的原料的混合比的混合比修正部；用所述处理液处理基片的处理部，所述混合部用于贮存所述混合液的混合罐；对所述混合罐供给所述第一磷酸的第一磷酸供给部；和对所述混合罐供给所述添加剂的添加剂供给部，所述混合比修正部具有：将所述混合液从所述混合部输送至所述处理部的送液线路；和在所述送液线路的中途供给第二磷酸的第二磷酸供给部。由此，能够适当变更磷酸与添加剂的混合比。
本发明授权基片处理装置及基片处理方法在权利要求书中公布了：1.一种基片处理装置，其特征在于，具有：用处理液来处理基片的处理部；混合部，其按预定的混合比混合作为所述处理液的原料的第一磷酸与氧化硅析出抑制剂，来调配混合液；混合比修正部，其修正所述处理液的原料的混合比，具有将所述混合液从所述混合部输送至所述处理部的送液线路和在所述送液线路的中途供给第二磷酸的第二磷酸供给部；和控制部，其控制所述第一磷酸与所述氧化硅析出抑制剂的第一混合比和所述混合液与所述第二磷酸的第二混合比，所述混合部包括：用于贮存所述混合液的混合罐；对所述混合罐供给所述第一磷酸的第一磷酸供给部；和对所述混合罐供给所述氧化硅析出抑制剂的氧化硅析出抑制剂供给部，所述控制部通过基于所述基片的处理条件变更所述第一混合比和所述第二混合比中的至少一者，来变更在所述处理部中供给到所述基片上的所述处理液所包含的所述氧化硅析出抑制剂的浓度。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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