恭喜日产化学株式会社柴山亘获国家专利权
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龙图腾网恭喜日产化学株式会社申请的专利抗蚀剂图案金属化工艺用组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113785243B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080032980.7，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权抗蚀剂图案金属化工艺用组合物是由柴山亘;武田谕;志垣修平;石桥谦;加藤宏大;中岛诚设计研发完成，并于2020-03-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本抗蚀剂图案金属化工艺用组合物在说明书摘要公布了：本发明的课题是提供一种组合物以及使用该组合物的抗蚀剂图案的金属化方法，其能够通过使抗蚀剂图案的抗蚀剂金属化来改善抗蚀剂图案的粗糙度或塌陷，并提高耐蚀刻性。本发明是一种用于抗蚀剂图案金属化工艺的组合物以及使用该组合物提供于抗蚀剂中渗透有前述组合物成分的抗蚀剂图案的抗蚀剂图案金属化方法，所述组合物含有A成分：选自金属氧化物1、水解性硅烷化合物2、前述水解性硅烷化合物的水解物3、及前述水解性硅烷化合物的水解缩合物4中的至少一种；B成分：不含有羧基‑‑COOH的酸化合物；及C成分：水性溶剂。
本发明授权抗蚀剂图案金属化工艺用组合物在权利要求书中公布了：1.一种半导体装置的制造方法，包含：在基板上涂布抗蚀剂溶液的步骤；使抗蚀剂膜曝光并显影的步骤；在所述显影中或所述显影后的抗蚀剂图案上涂布组合物，从而在抗蚀剂图案上形成涂膜的步骤；加热该涂膜而形成加热后涂膜，从而提供在抗蚀剂中渗透有所述组合物成分的抗蚀剂图案的步骤；以及以该抗蚀剂图案为保护膜来加工该抗蚀剂图案的下层的步骤，所述组合物含有：成分A：选自金属氧化物a1、水解性硅烷化合物a2、所述水解性硅烷化合物的水解物a3、及所述水解性硅烷化合物的水解缩合物a4中的至少一种，所述金属氧化物a1是选自锗、铟、锡和钒中的至少一种金属的氧化物；成分B：不含有羧基-COOH的酸化合物；以及成分C：水性溶剂。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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