恭喜日本化药株式会社横山悠衣获国家专利权
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龙图腾网恭喜日本化药株式会社申请的专利含有偶氮化合物或其盐的偏光膜、偏光板及液晶显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116018381B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-02发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180051539.8,技术领域涉及:G02B5/30;该发明授权含有偶氮化合物或其盐的偏光膜、偏光板及液晶显示装置是由横山悠衣;中村光则;服部由侑;森田陵太郎;望月典明设计研发完成,并于2021-09-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本含有偶氮化合物或其盐的偏光膜、偏光板及液晶显示装置在说明书摘要公布了:一种含有下述式1所示的偶氮化合物或其盐的偏光膜。式1中,Ra1、Ra2、Ab1、Ab2在环a及环b的任一者做取代,Ra1及Ra2的任一者为羟基,另一者表示氢原子、羟基、C1至4的烷氧基或具有磺酸基的C1至4的烷氧基,Ab1及Ab2的任一者表示磺酸基、羧基或可具有取代基的胺基,另一者为选自由氢原子、磺酸基、羧基或可具有取代基的胺基所构成的群组的取代基,Rb1至Rb6分别独立地表示氢原子、C1至4的烷基、C1至4的烷氧基、磺酸基、具有磺酸基的C1至4的烷氧基或可具有取代基的胺基,h表示0或1,Xb1表示可具有至少一个取代基S的胺基、可具有取代基的苯基胺基、可具有取代基的苯基偶氮基、可具有取代基的萘并三唑基或可具有取代基的苯甲酰基胺基,取代基S选自由C1至4的烷基、C1至4的烷氧基、磺酸基、胺基、C1至4的烷基胺基、羟基、羧基及羧基乙基胺基所构成的群组,并且与上述Ra1、Ra2、Ab1及Ab2不同。
本发明授权含有偶氮化合物或其盐的偏光膜、偏光板及液晶显示装置在权利要求书中公布了:1.一种偏光膜,其含有下述式2所示的偶氮化合物或其盐; 式2中,Ra2为羟基,Ra1为氢原子、羟基、C1至4的烷氧基或具有磺酸基的C1至4的烷氧基,Ab1及Ab2的任一者表示磺酸基、羧基或可具有取代基的胺基,另一者为选自由氢原子、磺酸基、羧基或可具有取代基的胺基所构成的群组的取代基,Rb1至Rb6分别独立地表示氢原子、C1至4的烷基、C1至4的烷氧基、磺酸基、具有磺酸基的C1至4的烷氧基或可具有取代基的胺基,h表示0或1,Xb1表示可具有至少一个取代基S的胺基、可具有取代基的苯基胺基、可具有取代基的苯基偶氮基、可具有取代基的萘并三唑基或可具有取代基的苯甲酰基胺基,所述取代基S为一个取代基或可独立地选择的多个取代基,且选自由可进一步具有取代基的C1至4的烷基、C1至4的烷氧基、磺酸基、胺基、C1至4的烷基胺基、羟基、羧基及羧基乙基胺基所构成的群组,并且与上述Ra1、Ra2、Ab1及Ab2不同。
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