恭喜鸿海精密工业股份有限公司蒋光浩获国家专利权
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龙图腾网恭喜鸿海精密工业股份有限公司申请的专利红外线侦测结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114659642B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210291651.5，技术领域涉及：G01J5/20；该发明授权红外线侦测结构是由蒋光浩;庄尚余设计研发完成，并于2022-03-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本红外线侦测结构在说明书摘要公布了：红外线侦测结构包括基材、主动像素阵列、参考像素阵列、光吸收层、侧壁间隔结构以及遮光层。主动像素阵列位于基材上。参考像素阵列位于基材上，并相邻于主动像素阵列，且具有参考像素。参考像素包含基板、电阻元件以及红外线感应材料层。电阻元件位于基板上。红外线感应材料层位于电阻元件上方。光吸收层位于参考像素上方。侧壁间隔结构位于参考像素上方，且延伸于光吸收层的侧壁。遮光层共形地形成于光吸收层以及侧壁间隔结构上方。
本发明授权红外线侦测结构在权利要求书中公布了：1.一种红外线侦测结构，其特征在于，包含：基材；主动像素阵列，位于该基材上；参考像素阵列，位于该基材上，并相邻于该主动像素阵列，且具有第一参考像素，该第一参考像素包含：第一基板；第一电阻元件，位于该第一基板上；以及第一红外线感应材料层，位于该第一电阻元件上方；第一光吸收层，位于该第一参考像素上方；第一侧壁间隔结构，位于该第一参考像素上方，且延伸于该第一光吸收层的侧壁；以及第一遮光层，共形地形成于该第一光吸收层以及该第一侧壁间隔结构上方。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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