恭喜拓维电子科技(上海)有限公司刘志哲获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!
龙图腾网恭喜拓维电子科技(上海)有限公司申请的专利LDO电路、LDO以及SOC系统获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116126076B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-02发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310301315.9,技术领域涉及:G05F1/56;该发明授权LDO电路、LDO以及SOC系统是由刘志哲;侯瀚林;刘晓东;尹鸿杰设计研发完成,并于2023-03-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本LDO电路、LDO以及SOC系统在说明书摘要公布了:本公开的实施例提供了一种LDO电路、LDO以及SOC系统,应用于线性稳压器电路技术领域。该LDO电路包括放大器ABG、放大器Aref、放大器Ax以及LDO主体结构;放大器ABG的同相输入端与基准电流连接,反相输入端通过电阻RBG2接地并通过电阻RBG1与输出端连接;放大器Aref的同相输入端与放大器ABG的输出端连接,反相输入端通过电阻Rref2接地并通过电阻Rref1与输出端连接;放大器Ax的同相输入端与放大器ABG的输出端连接,反相输入端通过电阻Rx2接地并通过电阻Rx1与输出端连接;LDO主体结构的Vref端口与放大器Aref的输出端连接;Vx端口与放大器Ax的输出端连接;输出端与电路输出端连接。以此方式,可以进一步减小PSR参数,进而减小外部噪声对频率合成器中MulticoreVCO模块的影响。
本发明授权LDO电路、LDO以及SOC系统在权利要求书中公布了:1.一种LDO电路,其特征在于,包括:放大器ABG、放大器Aref、放大器Ax以及LDO主体结构;所述放大器ABG用于根据基准电流产生电压VBG提供给所述放大器Aref和所述放大器Ax;所述放大器Aref用于产生电压Vref提供给所述LDO主体结构;所述放大器Ax用于产生电压Vx提供给所述LDO主体结构;所述LDO主体结构用于根据电压Vref和Vx产生输出电压;所述放大器ABG的同相输入端与基准电流连接,反相输入端通过电阻RBG2接地并通过电阻RBG1与输出端连接;所述放大器Aref的同相输入端与所述放大器ABG的输出端连接,反相输入端通过电阻Rref2接地并通过电阻Rref1与输出端连接;所述放大器Ax的同相输入端与所述放大器ABG的输出端连接,反相输入端通过电阻Rx2接地并通过电阻Rx1与输出端连接;所述LDO主体结构的Vref端口与所述放大器Aref的输出端连接;Vx端口与所述放大器Ax的输出端连接;输出端与电路输出端连接;其中,所述LDO主体结构包括误差放大器AEA、晶体管ML、晶体管MY、晶体管MQ、晶体管MX、晶体管MP、反馈电阻RS、片外电容C1、等效电阻Resr以及负载电阻Rload;所述误差放大器AEA的同相输入端与所述放大器Aref的输出端连接,反相输入端通过所述反馈电阻RS与电路输出端连接,正电源端与所述放大器Ax的输出端连接,负电源端接地;所述晶体管ML的栅极与所述误差放大器AEA的输出端连接,源级接地,漏极与所述晶体管MY的源级连接;所述晶体管MY的漏极通过电阻R5与电源电压连接,栅极通过所述负载电阻Rload接地;所述晶体管MQ的源级通过电阻R4与电源电压连接,漏极通过电阻R3接地,栅极接地;所述晶体管MX的栅极通过电阻R3接地,源级与电源电压连接,漏极与电路输出端连接,衬底与所述晶体管MP的栅极连接;所述晶体管MP的源级与电源电压连接,漏极与电路输出端连接并通过所述负载电阻Rload接地;所述片外电容C1的一端接地,另一端通过所述等效电阻Resr与电路输出端连接;所述LDO主体结构还包括零点补偿结构;所述零点补偿结构用于产生反馈电压VFeedback提供给所述误差放大器AEA;所述零点补偿结构的电源输入端口接与电源电压连接,VFeedback端口与所述误差放大器AEA连接并通过所述反馈电阻RS接电路输出端;所述零点补偿结构包括晶体管M1、晶体管M2、晶体管M3、晶体管M4、放大器Aesr、快速启动电阻Ron以及RC滤波结构;所述晶体管M3的源级与电源电压连接,栅极通过电阻R3接地、衬底与所述晶体管M4的栅极连接、漏极分别与所述放大器Aesr的同相输入端和所述晶体管M1的漏极连接;所述晶体管M4的源级与电源电压连接,衬底与所述晶体管MX的栅极连接,漏极与所述晶体管M2的漏极连接并通过所述快速启动电阻Ron与所述放大器Aesr的反相输入端连接;所述放大器Aesr的输出端与所述晶体管M1的栅极连接并通过所述RC滤波结构与所述晶体管M2的栅极连接;所述晶体管M1的源级通过电阻R1接地,所述晶体管M2的源级通过电阻R2接地;所述LDO主体结构还包括过流保护结构;所述过流保护结构用于产生过流保护电压Vctrl提供给所述晶体管MY;所述过流保护结构的输入端口分别与所述晶体管MX和所述晶体管MP的漏极连接,电压输出端口与电路输出端连接,Vctrl端口与所述晶体管MY的栅极连接;所述过流保护结构包括晶体管P1、晶体管P2、晶体管N1、晶体管N2、晶体管N3以及片外电容C2;所述晶体管P1的源级通过电阻Rb1与所述MX晶体管的漏极连接,栅极与所述晶体管P2的栅极连接,漏级与所述晶体管N1的漏极连接;所述晶体管P2的源级通过电阻Rb2与所述晶体管MP的漏极连接,漏级与所述晶体管N2的漏极连接,栅极和漏极互接;所述晶体管N1的源级接地,栅极与所述晶体管N2的栅极连接,漏极和栅极互接;所述晶体管N2的源级接地,栅极与所述晶体管N3的栅极连接;所述晶体管N3的源级接地、漏极与所述晶体管M2的栅极连接;所述片外电容C1的一端分别与所述晶体管MP的漏极和电路输出端连接,另一端接地。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人拓维电子科技(上海)有限公司,其通讯地址为:201108 上海市闵行区申南路515号3幢401室;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。