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恭喜ASML荷兰有限公司达米安·乌列·波阿斯·奥瑟姆斯获国家专利权

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龙图腾网恭喜ASML荷兰有限公司申请的专利辐射系统获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113396644B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-29发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080012576.3,技术领域涉及:H05G2/00;该发明授权辐射系统是由达米安·乌列·波阿斯·奥瑟姆斯;黄壮雄;科尔马·欧戈尔曼;蒂姆·科内利斯·古森斯;彼得·哈弗曼斯;R·奥斯特霍特;刘飞设计研发完成,并于2020-01-24向国家知识产权局提交的专利申请。

辐射系统在说明书摘要公布了:辐射系统包括辐射源SO和等离子体产生器16。所述辐射源包括:壳体9,所述壳体设置有出口孔8;和辐射产生器,所述辐射产生器能够操作以在所述壳体中产生输出辐射并且引导所述输出辐射的至少一部分穿过所述出射孔。所述等离子体产生器能够操作以产生等离子体18,所述等离子体至少部分地延伸横穿所述输出辐射的被引导通过所述出射孔的所述至少一部分。

本发明授权辐射系统在权利要求书中公布了:1.一种系统,包括:辐射源,所述辐射源包括:壳体,所述壳体设置有出射孔;和辐射产生器,所述辐射产生器能够操作以在所述壳体中产生输出辐射并且引导所述输出辐射的至少一部分穿过所述出射孔;以及等离子体产生器,所述等离子体产生器能够操作以产生等离子体,所述等离子体至少部分地延伸横穿所述输出辐射的被引导通过所述出射孔的所述至少一部分,其中,所述等离子体产生器包括至少一个等离子体产生单元,所述至少一个等离子体产生单元被布置成产生所述等离子体并引导所述等离子体至少部分地流动横穿所述出射孔。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人ASML荷兰有限公司,其通讯地址为:荷兰维德霍温;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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