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龙图腾网恭喜SPTS科技有限公司申请的专利谐振器装置及其制造方法及在衬底上沉积金属层的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113512705B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110249843.5，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权谐振器装置及其制造方法及在衬底上沉积金属层的方法是由S·海默尔;A·托马斯;S·伯吉斯设计研发完成，并于2021-03-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本谐振器装置及其制造方法及在衬底上沉积金属层的方法在说明书摘要公布了：本申请案涉及一种沉积方法。根据本发明提供一种在谐振器装置的制造中在衬底上溅镀沉积金属层的方法，其中所述金属层由选自钼Mo、钨W、钛Ti、钽Ta、铂Pt或钌Ru的金属组成，所述方法包括以下步骤：提供包括腔室、安置于所述腔室内的衬底支撑件、由金属材料制成的靶标及等离子体产生装置的磁控溅镀设备，其中所述衬底支撑件与所述靶标分离开10cm或更小的距离；将所述衬底支撑于所述衬底支撑件上；执行DC磁控溅镀步骤，其包括将所述金属材料从所述靶标溅镀到所述衬底上以便在所述衬底上形成金属层，其中在所述DC磁控溅镀步骤期间，所述腔室的惰性气体具有至少6毫托的压力，所述靶标被供应具有至少6Wcm2的功率密度的功率，且所述衬底具有200到600℃范围内的温度。

本发明授权谐振器装置及其制造方法及在衬底上沉积金属层的方法在权利要求书中公布了：1.一种在谐振器装置的制造中在衬底上溅镀沉积金属层的方法，其中所述金属层由选自钼Mo、钨W、钛Ti、钽Ta、铂Pt或钌Ru的金属组成，所述方法包括以下步骤：提供包括腔室、安置于所述腔室内的衬底支撑件、由金属材料制成的靶标及等离子体产生装置的磁控溅镀设备，其中所述衬底支撑件与所述靶标分离开10cm或更小的距离；将所述衬底支撑于所述衬底支撑件上；执行DC磁控溅镀步骤，其包括将所述金属材料从所述靶标溅镀到所述衬底上以便在所述衬底上形成金属层，其中在所述DC磁控溅镀步骤期间，所述腔室的惰性气体具有至少6毫托的压力，所述靶标被供应具有至少6Wcm2的功率密度的功率，且所述衬底具有200到600℃范围内的温度。

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