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龙图腾网恭喜上海交通大学申请的专利一种具有结构色的辐射制冷多层膜结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112984857B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110255747.1，技术领域涉及：F25B23/00；该发明授权一种具有结构色的辐射制冷多层膜结构是由赵长颖;金圣皓;王博翔设计研发完成，并于2021-03-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种具有结构色的辐射制冷多层膜结构在说明书摘要公布了：本发明提供了一种能够呈现结构色的辐射制冷多层膜结构。包括顶部辐射制冷器结构和底部成色器结构，成色器结构包括自下而上堆叠形成的MIM结构和二周期一维准光子晶体结构。所述的多层膜结构的总厚度为1.657μm～1.87μm，以石英玻璃或Si作为基底材料，所述的结构在太阳光波段具有较强的反射能力，在大部分太阳光波段的反射率达到0.9以上。本发明的多层膜结构可克服目前辐射制冷结构由于颜色单一的应用场合受限问题。且相对于可呈现结构色的辐射制冷超表面光子器件，该一维结构色辐射制冷多层膜具有制造成本较低，工艺简单的巨大优势。所述的呈现结构色的辐射制冷多层膜结构在室外物体及电子产品热管理等领域有广大的应用前景。

本发明授权一种具有结构色的辐射制冷多层膜结构在权利要求书中公布了：1.一种具有结构色的辐射制冷多层膜结构，其特征在于，包括一维多层膜结构，所述一维多层膜结构包括顶部辐射制冷器结构和底部成色器结构，成色器结构包括自下而上堆叠形成的MIM结构和二周期一维准光子晶体结构；二周期一维准光子晶体结构由折射率不同的两种电介质薄膜交替堆叠构成，其中低折射率材料为SiO2、MgF2、CaF2中的一种，高折射率材料为TiO2、HfO2、SiC中的一种；二周期一维准光子晶体结构与MIM结构的顶层金属层协同；辐射制冷器结构由SiO2、Si3N4、Al2O3中的一种或几种材料组成；采用Ag作为MIM结构的金属层材料，SiO2作为MIM结构的电介质层材料；底部Ag层的厚度范围在40～100nm，顶部Ag层的厚度范围在10～80nm，SiO2层的厚度范围在90～170nm；采用SiO2和TiO2作为二周期一维准光子晶体的材料，SiO2层的厚度范围在50～100nm，TiO2层的厚度范围在20～60nm；采用SiO2和Si3N4作为辐射制冷器的材料，Si3N4层的厚度设定为900nm，SiO2层的厚度为325nm～425nm；所述一维多层膜结构呈现减法三原色和加法三原色的结构色，分别为淡紫红色、淡青色以及淡黄色；淡红色、淡绿色以及淡蓝色；一维多层膜结构的颜色在CIE1931色度图中的色坐标x，y，Y分别为淡紫红色0.31，0.30，85.30、淡青色0.30，0.33，95.93及淡黄色0.33，0.36，97.15；淡红色0.35，0.35，84.24、淡绿色0.33，0.37，94.12及淡蓝色0.29，0.32，84.02。

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