恭喜重庆惠科金渝光电科技有限公司;惠科股份有限公司孙松获国家专利权
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龙图腾网恭喜重庆惠科金渝光电科技有限公司;惠科股份有限公司申请的专利阵列基板及其制备方法、显示面板获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114141787B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111259100.2，技术领域涉及：H10D86/60；该发明授权阵列基板及其制备方法、显示面板是由孙松;卢劲松;熊钦;洪文进;李荣荣设计研发完成，并于2021-10-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本阵列基板及其制备方法、显示面板在说明书摘要公布了：本发明公开一种阵列基板及其制备方法、显示面板，阵列基板包括自下向上依次层叠设置的衬底、栅极、栅极绝缘层、有源层、源漏层、钝化层以及透明导电层，所述源漏层包括间隔设置的源极和漏极，所述有源层的材质包括铟镓锌氧化物，所述钝化层包括自下向上依次叠设的有机平坦层和第一钝化层，所述第一钝化层的材质包括聚酰亚胺。本发明提出的阵列基板，钝化层不仅具有保护沟道层的作用，还能够对液晶进行配向，使得该阵列基板无需设置其他复杂的功能层，结构简单、性能稳定，简化了制造的流程和工艺。
本发明授权阵列基板及其制备方法、显示面板在权利要求书中公布了：1.一种阵列基板，包括自下向上依次层叠设置的衬底、栅极、栅极绝缘层、有源层、源漏层、钝化层以及透明导电层，所述源漏层包括间隔设置的源极和漏极，其特征在于，所述有源层的材质包括铟镓锌氧化物，所述钝化层包括自下向上依次叠设的有机平坦层和第一钝化层，所述第一钝化层的材质包括聚酰亚胺；其中，所述钝化层通过下列方法制备得到：将有机平坦层的原料旋涂在所述源漏层的上侧，在100～120℃下烘烤1～1.2h，形成薄膜，对所述薄膜进行刻蚀，得有机平坦层；在所述有机平坦层的上侧旋涂聚酰亚胺，在300～320℃下烘烤1～1.2h，形成聚酰亚胺膜，对所述聚酰亚胺膜进行刻蚀，形成第一钝化层。
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