恭喜友达光电股份有限公司柯聪盈获国家专利权
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龙图腾网恭喜友达光电股份有限公司申请的专利显示装置的制造方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114141704B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-29发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111337348.6,技术领域涉及:H10K71/80;该发明授权显示装置的制造方法是由柯聪盈;谢坤龙;陈芙蓉设计研发完成,并于2021-11-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示装置的制造方法在说明书摘要公布了:本发明公开一种显示装置的制造方法,包括:形成第一导电层于基板的遮蔽区;形成改质层于第一导电层上,且改质层的厚度不大于第一导电层的厚度;形成第二导电层于改质层上,且第二导电层的厚度不小于第一导电层的厚度;形成缓冲层于第二导电层及基板的非遮蔽区上;形成像素层于缓冲层上,像素层包括多个子像素;形成覆盖层于像素层上;将第二导电层的部分与改质层分离,以取得显示单元,其中,显示单元包括覆盖层的部分、像素层、缓冲层的部分及第二导电层的部分;移除显示单元上的第二导电层的部分;以及形成载板于显示单元的缓冲层的部分上。
本发明授权显示装置的制造方法在权利要求书中公布了:1.一种显示装置的制造方法,包括:形成第一导电层于基板上,其中该基板具有遮蔽区及非遮蔽区,且该第一导电层位于该遮蔽区;形成改质层于该第一导电层上,且该改质层的厚度不大于该第一导电层的厚度,在形成该改质层的过程中对该第一导电层施加偏压;形成第二导电层于该改质层上,该第二导电层的厚度不小于该第一导电层的厚度,且该第一导电层及该改质层与该第二导电层堆叠于该基板的该遮蔽区上;形成缓冲层于该遮蔽区的该第二导电层上及该基板的该非遮蔽区上;形成像素层于该缓冲层上,该像素层包括多个子像素,各该子像素包括至少一开关元件、至少一显示元件及至少两条信号线,且该至少一开关元件包括第一端、第二端及控制端,该第一端电连接该至少一显示元件,该第二端及该控制端分别电连接该至少两条信号线;形成覆盖层于该像素层上;将该第二导电层的一部分与该改质层分离,以取得显示单元,其中,该显示单元包括该覆盖层的一部分、该像素层的一部分、该缓冲层的一部分及该第二导电层的该部分,且去除该基板、该第一导电层、该改质层、该第二导电层的另一部分、该缓冲层的另一部分、该像素层的另一部分及该覆盖层的另一部分;移除该显示单元上的该第二导电层的该部分;以及形成载板于该显示单元的该缓冲层的该部分上。
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