恭喜湖北鼎汇微电子材料有限公司;湖北鼎龙控股股份有限公司罗乙杰获国家专利权
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龙图腾网恭喜湖北鼎汇微电子材料有限公司;湖北鼎龙控股股份有限公司申请的专利一种异氰酸酯预聚体、包含其的抛光垫、抛光设备及半导体器件的制造方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115476267B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-29发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211340233.7,技术领域涉及:B24B37/22;该发明授权一种异氰酸酯预聚体、包含其的抛光垫、抛光设备及半导体器件的制造方法是由罗乙杰;占英才;严亮;陈博;王淑芹;张季平;刘敏;蔡龙丹设计研发完成,并于2022-10-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种异氰酸酯预聚体、包含其的抛光垫、抛光设备及半导体器件的制造方法在说明书摘要公布了:本发明涉及一种异氰酸酯预聚体、包含其的抛光垫、抛光设备及半导体器件的制造方法。该异氰酸酯预聚体由包括芳香族异氰酸酯、脂环族异氰酸酯、聚醚多元醇、小分子多元醇的原料反应得到,以NCO为封端基团,游离NCO的质量百分数为8.5%~11.0%,游离芳香族异氰酸酯的质量百分数为0.5%~4%,游离脂环族异氰酸酯的质量百分数为1.5%~15.0%;20℃~130℃内的蒸汽压为0.2~30Pa。本发明通过控制异氰酸酯预聚体的合成反应,控制预聚体中游离芳香族异氰酸酯、游离脂环族异氰酸酯的含量,发现由满足本发明异氰酸酯预聚体制备的抛光垫具有适当的切削速率、高的去除速率及高的去除速率稳定性。
本发明授权一种异氰酸酯预聚体、包含其的抛光垫、抛光设备及半导体器件的制造方法在权利要求书中公布了:1.一种异氰酸酯预聚体,其特征在于,由包括芳香族异氰酸酯、脂环族异氰酸酯、聚醚多元醇、小分子多元醇的原料反应得到,以NCO为封端基团,游离NCO的质量百分数为8.5%~11.0%,游离芳香族异氰酸酯的质量百分数为0.5%~4%,游离脂环族异氰酸酯的质量百分数为1.5%~15.0%;20℃~130℃内的蒸汽压为0.2~30Pa;所述原料中芳香族异氰酸酯、脂环族异氰酸酯、聚醚多元醇、小分子多元醇的质量比为(20~35):(3~20):(45~58):(2~10);所述游离芳香族异氰酸酯占投料芳香族异氰酸酯中的比例小于10%,所述游离脂环族异氰酸酯占投料脂环族异氰酸酯的比例大于10%。
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