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龙图腾网恭喜上海华力微电子有限公司申请的专利目标版图优化方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115657417B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211343908.3，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权目标版图优化方法是由何大权;魏芳;陈翰;张辰明设计研发完成，并于2022-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本目标版图优化方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种目标版图优化方法，包括：对第一金属层图形使用标准模型进行OPC修正得到第一OPC图形；对第一OPC图形使用工艺窗口模型模拟得到模拟图形，并从中标记出桥接图形和断线图形；选择第一金属层和桥接图形接触的第一图形边并移动第一距离得到第二金属层图形；选择第二金属层图形与断线图形接触的第二图形边并移动第二距离得到第一目标图形；选择第一目标图形与桥接图形接触的第三图形边并向图形内部方向移动第一距离，得到第三金属层图形；选择第三金属层图形与断线图形接触的第四图形边并向图形外部方向移动第二距离，得到第二目标图形；对第二目标图形基于标准模型和工艺窗口模型进行OPC修正，得到第二OPC图形。

本发明授权目标版图优化方法在权利要求书中公布了：1.一种目标版图优化方法，其特征在于，包括：输入第一金属层图形以及与所述第一金属层图形对应的通孔图形；对所述第一金属层图形使用标准模型进行第一次OPC修正，以得到第一OPC图形；对所述第一OPC图形使用工艺窗口模型模拟，以得到模拟图形，并从所述模拟图形中根据桥接规格和断线规格分别标记出桥接图形和断线图形；选择所述第一金属层和所述桥接图形接触的第一图形边，向所述桥接图形的内部移动所述第一图形边，移动第一距离，以得到第二金属层图形；选择所述第二金属层图形与所述断线图形接触的第二图形边，向所述断线图形的外部方向移动所述第二图形边，移动第二距离，以得到第一目标图形；选择所述第一目标图形与所述桥接图形接触的第三图形边，向所述桥接图形的内部移动所述第三图形边，移动第一距离，以得到第三金属层图形；选择所述第三金属层图形与所述断线图形接触的第四图形边，向所述断线图形的外部方向移动所述第四图形边，移动第二距离，以得到第二目标图形；以及对所述第二目标图形基于所述标准模型和所述工艺窗口模型进行OPC修正，以得到第二OPC图形。

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