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龙图腾网恭喜昆山国显光电有限公司申请的专利掩膜单元及掩膜板的制作方法和掩膜板获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116011211B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211711695.5，技术领域涉及：G06F30/20；该发明授权掩膜单元及掩膜板的制作方法和掩膜板是由臧公正;李文星;李伟丽设计研发完成，并于2022-12-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本掩膜单元及掩膜板的制作方法和掩膜板在说明书摘要公布了：本发明提供一种掩膜单元及掩膜板的制作方法和掩膜板，所述掩膜单元的制作方法包括：对掩膜单元的张网拉伸过程进行模拟仿真，获得掩膜单元的变形数据；其中，掩膜单元包括沿张网拉伸的拉伸方向分布的标准点位和多个行组，变形数据包括标准点位的第一变形数据；根据变形数据确定待补偿的行组，对待补偿的行组进行补偿，补偿的过程包括：基于第一变形数据对待补偿的行组进行补偿，以使补偿后的行组经张网拉伸后位于掩膜单元的预设位置，得到补偿后的掩膜单元。本发明能够提高采用上述掩膜单元蒸镀的膜层的位置精度。

本发明授权掩膜单元及掩膜板的制作方法和掩膜板在权利要求书中公布了：1.一种掩膜单元的制作方法，其特征在于，包括：对掩膜单元的张网拉伸过程进行模拟仿真，获得所述掩膜单元的变形数据；其中，所述掩膜单元包括沿所述张网拉伸的拉伸方向分布的标准点位和多个行组，每一所述行组包括沿第二方向分布的多个开口，所述第二方向垂直于所述拉伸方向；所述变形数据包括所述标准点位的第一变形数据；所述标准点位的数量为两个，两个所述标准点位分别位于所述掩膜单元的相对两侧；根据两个所述标准点位的变形数据确定所述掩膜单元两侧待补偿的行组，对所述待补偿的行组进行补偿，所述补偿的过程包括：基于所述第一变形数据对所述待补偿的行组进行补偿，以使补偿后的所述行组经所述张网拉伸后位于所述掩膜单元的预设位置，得到补偿后的掩膜单元；所述基于所述第一变形数据对所述待补偿的行组进行补偿，包括：基于所述待补偿的行组与所述标准点位至同一基准线在所述拉伸方向上的距离和所述第一变形数据，对所述待补偿的行组进行补偿。

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