恭喜上海富乐华半导体科技有限公司黄元昊获国家专利权
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龙图腾网恭喜上海富乐华半导体科技有限公司申请的专利一种湿法氧化工艺用铜片架获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116426908B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310267851.1，技术领域涉及：C23C22/00；该发明授权一种湿法氧化工艺用铜片架是由黄元昊;孙见;祝林;戴洪兴设计研发完成，并于2023-03-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种湿法氧化工艺用铜片架在说明书摘要公布了：本发明涉及半导体器件加工生产设备领域。一种湿法氧化工艺用铜片架，包括用于支撑铜片的支撑架，支撑架包括支撑杆，支撑杆的相对侧开设有沿着轴向左右贯穿的缺口；支撑杆上套设有至少三个从左至右排布的隔离环，相邻的隔离环相连形成宽度从内至外递增的插片槽部；隔离环的内部镂空，隔离环包括外环，隔离环的内侧设有两个相对设置且用于横向滑入支撑杆的滑块部，外环通过引导部与滑块部相连；隔离环包括位于中部的中部隔离环、位于左端的左端隔离环以及位于右端的右端隔离环，所有的中部隔离环结构相同；支撑杆的两端还螺纹连接有限位件，支撑杆两端的限位件分别抵住左端隔离环以及右端隔离环。本发明可以使药液沿铜片架径向和纵向流动充分。
本发明授权一种湿法氧化工艺用铜片架在权利要求书中公布了：1.一种湿法氧化工艺用铜片架，包括用于支撑铜片的支撑架，其特征在于，所述支撑架包括支撑杆，所述支撑杆的相对侧开设有沿着轴向左右贯穿的缺口；所述支撑杆上套设有至少三个从左至右排布的隔离环，相邻的隔离环相连形成宽度从内至外递增的插片槽部；所述隔离环的内部镂空，所述隔离环包括外环，所述隔离环的内侧设有两个相对设置且用于横向滑入所述支撑杆的滑块部，所述外环通过引导部与所述滑块部相连；所述隔离环包括位于中部的中部隔离环、位于左端的左端隔离环以及位于右端的右端隔离环，所有的中部隔离环结构相同；所述支撑杆的两端还螺纹连接有限位件，所述支撑杆两端的限位件分别抵住所述左端隔离环以及右端隔离环。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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