恭喜朗姆研究公司纳格拉杰·尚卡尔获国家专利权
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龙图腾网恭喜朗姆研究公司申请的专利具有气隙隔离充气室的喷头和高架式隔离气体分配器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112136206B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980033022.9，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权具有气隙隔离充气室的喷头和高架式隔离气体分配器是由纳格拉杰·尚卡尔;杰弗里·D·沃马克;梅里哈·歌德·兰维尔;埃米尔·C·德拉佩;潘卡伊·G·拉玛尼;毕峰;张鹏翼;伊尔哈姆·莫希米;卡普·瑟里什·雷迪设计研发完成，并于2019-05-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有气隙隔离充气室的喷头和高架式隔离气体分配器在说明书摘要公布了：提供用于独立输送不同的、相互反应的工艺气体至晶片处理空间的喷头。所述喷头包含具有经由间隙而彼此隔开的多个充气室结构的第一气体分配器、以及定位于所述第一气体分配器上方的第二气体分配器。可使来自第二气体分配器的隔离气体向下流至第一气体分配器上并通过第一气体分配器的所述充气室结构之间的间隙，从而建立隔离气体帘，其避免从各充气室结构释出的工艺气体寄生性地沉积于提供其他气体的充气室结构上。
本发明授权具有气隙隔离充气室的喷头和高架式隔离气体分配器在权利要求书中公布了：1.一种用于半导体处理的设备，所述设备包含：气体分配系统，其包括：隔离气体分配器，其包括隔离气体充气室容积和与所述隔离气体充气室容积流体连通的多个隔离气体端口，所述隔离气体端口被配置成使得当隔离气体流过所述隔离气体充气室容积并从所述隔离气体端口流出时，所述隔离气体沿第一平均方向流动；和工艺气体分配器，该工艺气体分配器包括多个工艺气体充气室结构，每个工艺气体充气室结构包括与相应的多个气体分配端口流体连接的相应的工艺气体充气室容积并且具有在沿着所述第一平均方向观看时通过相应的间隙与其他工艺气体充气室结构的至少一部分彼此间隔开的至少一部分，其中，所述工艺气体分配器被定位成使得当所述隔离气体从所述隔离气体分配器的所述隔离气体端口沿所述第一平均方向流动时，所述隔离气体流过所述工艺气体分配器。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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