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龙图腾网恭喜上海图双精密装备有限公司申请的专利用于提高曝光效果的方法和装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119292011B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411845405.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权用于提高曝光效果的方法和装置是由吴云涛设计研发完成，并于2024-12-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于提高曝光效果的方法和装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于提高曝光效果的方法，包括：将硅片置于chuck台上，chuck台具有气道并且硅片的下表面覆盖气道，并且其中掩模板置于chuck台上方且与硅片不接触；对气道抽真空以使硅片吸附在chuck台上；对硅片和掩模板进行调平和对准；通过垂向运动组件使chuck台向上移动直至硅片与掩模板的名义间隙接近或等于0，名义间隙的值取决于垂向运动组件的精度；释放气道的真空以使硅片与掩模板贴合更紧密，其中，对气道抽真空和释放气道的真空均是通过单个电磁阀来控制的；对硅片和掩模板进行曝光；曝光完成后对气道抽真空并等待预设时间段；以及通过垂向运动组件使chuck台向下移动以使硅片和掩模板分离。还公开了相关联的用于提高曝光效果的装置。

本发明授权用于提高曝光效果的方法和装置在权利要求书中公布了：1.一种用于提高曝光效果的方法，包括：将硅片置于chuck台上，所述chuck台具有气道并且所述硅片的下表面覆盖所述气道，并且其中掩模板置于所述chuck台上方且与所述硅片不接触；对所述气道抽真空以使所述硅片吸附在所述chuck台上；对所述硅片和所述掩模板进行调平和对准；在完成对所述硅片和所述掩模板的调平和对准之后，通过垂向运动组件使所述chuck台向上移动直至所述硅片与所述掩模板的名义间隙接近但不超过0，所述名义间隙的值取决于所述垂向运动组件的精度，其中，所述垂向运动组件的精度越高，所述名义间隙的值越接近0，并且其中，所述垂向运动组件的精度越低，所述名义间隙的值越小于0；释放所述气道的真空以使所述硅片与所述掩模板贴合更紧密，其中，对所述气道抽真空和释放所述气道的真空均是通过单个相同的电磁阀来控制的；对所述硅片和所述掩模板进行曝光；曝光完成后对所述气道抽真空并等待预设时间段；以及通过所述垂向运动组件使所述chuck台向下移动以使所述硅片和所述掩模板分离。

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