恭喜ASML荷兰有限公司A·J·唐科布洛克获国家专利权
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龙图腾网恭喜ASML荷兰有限公司申请的专利用于测量辐射束的方法和光刻设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113439237B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080014154.X，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权用于测量辐射束的方法和光刻设备是由A·J·唐科布洛克;Y·乔杜里;M·H·F·詹森设计研发完成，并于2020-01-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于测量辐射束的方法和光刻设备在说明书摘要公布了：本发明提供了一种包括投射系统的设备，该投射系统具有光轴并且被配置为投射辐射束。该设备包括被布置为测量由投射系统投射的辐射束的测量单元，该测量单元包括开口、以及感测表面，在使用时辐射束穿过开口，感测表面横向于光轴延伸并且被布置为测量穿过开口的辐射束。光刻设备被配置为在多个测量位置之间、在横向于光轴的平面中移动感测表面。辐射束限定上述平面中的视图，并且测量单元被配置为使得感测表面在每个测量位置捕获视图的一部分，该一部分比100％的视图小。本发明包括一种相对应的方法。
本发明授权用于测量辐射束的方法和光刻设备在权利要求书中公布了：1.一种用于光刻设备的感测设备，所述感测设备包括：测量单元，被布置为测量由具有光轴的投射系统投射的辐射束，所述测量单元包括：开口，所述辐射束在使用时穿过所述开口；以及感测表面，横向于所述光轴延伸并且被布置为测量穿过所述开口的所述辐射束，其中所述感测表面在多个测量位置之间、在横向于所述光轴的平面中相对于所述开口能够移动，其中所述辐射束限定所述平面中的视图，并且其中所述测量单元被配置为使得所述感测表面在每个测量位置捕获所述视图的一部分，所述一部分比100％的所述视图小。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人ASML荷兰有限公司，其通讯地址为：荷兰维德霍温；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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