买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网恭喜细美事有限公司申请的专利基板处理设备、其覆盖环及该覆盖环的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114156153B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111033375.4，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权基板处理设备、其覆盖环及该覆盖环的制造方法是由金善一;李相起设计研发完成，并于2021-09-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本基板处理设备、其覆盖环及该覆盖环的制造方法在说明书摘要公布了：本发明涉及基板处理设备、其覆盖环和该覆盖环的制造方法。公开了一种基板处理设备。该基板处理设备包括：工艺腔室，在该工艺腔室内部中提供处理空间；支承单元，其在处理空间中支承基板；气体供应单元，其将工艺气体供应至处理空间中；和等离子体源，其自工艺气体产生等离子体，支承单元包括：支承板，基板定位在支承板上；以及边缘环组合件，其围绕支承在支承板上的基板且在基板中形成等离子体，且边缘环组合件包括：聚焦环，其由第一材料形成，且在基板中形成等离子体的分布；以及设置在基板的区域中的覆盖环，该覆盖环在聚焦环的外侧上，由具有网状结构的第二材料形成，且包括通过将网状改质剂注入至网状结构的空白部位中提供的强化表面层。

本发明授权基板处理设备、其覆盖环及该覆盖环的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理设备，所述基板处理设备包含：工艺腔室，所述工艺腔室被配置为在其内部中提供处理空间；支承单元，所述支承单元被配置为在所述处理空间中支承基板；气体供应单元，所述气体供应单元被配置为将工艺气体供应至所述处理空间中；以及等离子体源，所述等离子体源被配置为自所述工艺气体产生等离子体，其中所述支承单元包括：支承板，所述基板被定位在所述支承板上；以及边缘环组合件，所述边缘环组合件被配置为围绕支承在所述支承板上的所述基板、且被配置为在所述基板中形成所述等离子体，且其中所述边缘环组合件包括：聚焦环，所述聚焦环由第一材料形成且被配置为在所述基板中形成所述等离子体的分布；外覆盖环，所述外覆盖环设置在所述基板的区域中，所述外覆盖环在所述聚焦环的外侧上、由具有网状结构的第二材料形成且包括强化表面层，所述强化表面层暴露于所述等离子体并通过将网状改质剂注入至所述网状结构的空白部位中来提供；内覆盖环，所述内覆盖环设置在所述外覆盖环与所述聚焦环之间且位于所述聚焦环的外区域上方；其中，所述网状改质剂为Na+、K+、Ca2+及Mg2+中的任一者或多者，并且其中，所述强化表面层具有10μm至500μm的厚度，其中，所述外覆盖环包括：上表面；侧表面；和弯曲表面，所述弯曲表面设置在所述上表面与所述侧表面之间，其中，所述强化表面层设置在所述上表面、所述侧表面和所述弯曲表面上，并且其中，所述内覆盖环的电容率高于所述外覆盖环的电容率，并且所述内覆盖环的电容率低于所述聚焦环的电容率。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人细美事有限公司，其通讯地址为：韩国忠清南道天安市西北区稷山邑四产团五街77号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。