买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网恭喜京东方科技集团股份有限公司申请的专利显示基板及其制备方法、显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115241235B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210699592.5，技术领域涉及：H10K59/38；该发明授权显示基板及其制备方法、显示装置是由张智辉;韩城;高昊;吴启晓;李旭设计研发完成，并于2022-06-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本显示基板及其制备方法、显示装置在说明书摘要公布了：一种显示基板及其制备方法、显示装置。显示基板包括：包括：基底、设置在基底上的显示结构层、设置在显示结构层远离基底一侧的光转换层、设置在光转换层远离基底一侧的光处理层；光转换层至少包括红色量子点层、绿色量子点层和透光层，光处理层包括多个提高出光效率的光处理结构和设置在光处理结构远离基底一侧的覆盖层，光处理结构在基底上的正投影与红色量子点层在基底上的正投影至少部分交叠，光处理结构在基底上的正投影与绿色量子点层在基底上的正投影至少部分交叠，光处理结构的折射率大于覆盖层的折射率。

本发明授权显示基板及其制备方法、显示装置在权利要求书中公布了：1.一种显示基板，其特征在于，包括：基底、设置在所述基底上的显示结构层、设置在所述显示结构层远离所述基底一侧的光转换层、设置在所述光转换层远离所述基底一侧的光处理层；所述光转换层至少包括红色量子点层、绿色量子点层和透光层，所述光处理层包括多个提高出光效率的光处理结构和设置在所述光处理结构远离所述基底一侧的覆盖层，所述光处理结构在所述基底上的正投影与所述红色量子点层在所述基底上的正投影至少部分交叠，所述光处理结构在所述基底上的正投影与所述绿色量子点层在所述基底上的正投影至少部分交叠，所述光处理结构的折射率大于所述覆盖层的折射率；其中，所述光处理结构包括第一光处理结构，所述第一光处理结构在所述基底上的正投影包含所述红色量子点层在所述基底上的正投影，所述第一光处理结构在所述基底上的正投影包含所述绿色量子点层在所述基底上的正投影；在垂直于所述基底的平面内，所述第一光处理结构的截面形状为梯形，所述梯形上底的长度为G1，下底的长度为E1，高为F1，所述梯形的尺寸关系满足：0.65微米＜F1E1-G12＜0.99微米。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人京东方科技集团股份有限公司，其通讯地址为：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。