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龙图腾网恭喜北京晶亦精微科技股份有限公司申请的专利抛光垫沟槽深度检测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115476277B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211127719.2，技术领域涉及：B24B49/12；该发明授权抛光垫沟槽深度检测方法是由周庆亚;吴燕林设计研发完成，并于2022-09-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本抛光垫沟槽深度检测方法在说明书摘要公布了：本发明提供抛光垫沟槽深度检测方法。本发明的抛光垫检测方法通过设置标记光线、获取计算夹角的正弦值，获取检测图像，公式计算的步骤，得到CMP系统中抛光垫的实际深度。本发明的抛光垫深度检测方法可以解决停机人工测量抛光垫沟槽深度效率低、易造成表面损伤和误差较大的问题。可以根据实时测量得到的实际深度为抛光过程提供参数依据，优化抛光工艺参数。

本发明授权抛光垫沟槽深度检测方法在权利要求书中公布了：1.一种抛光垫沟槽深度检测方法，其特征在于，提供CMP系统和抛光垫；设置标记光线，通过光学模块向所述抛光垫的沟槽处投射标记光线，所述标记光线横跨所述沟槽的宽度方向；定义所述标记光线在所述抛光垫表面的部分为第一标记光线，定义所述标记光线在所述沟槽底部的部分为第二标记光线；获取检测图像，在所述CMP系统运行一段时间后，通过设置于抛光垫侧部上方的拍照模块拍摄所述抛光垫，获取检测图像；测量此时所述第一标记光线与所述第二标记光线之间的间距长度，定义该长度为检测长度；获取计算夹角的正弦值，定义所述拍照模块所在水平线至所述第二标记光线与所述抛光垫的沟槽远离所述拍照模块一侧的侧壁的交点处的连线为第一测量线，定义所述拍照模块至所述第二标记光线与所述抛光垫的沟槽远离所述拍照模块一侧的侧壁的交点处的连线为第二测量线；定义所述第二测量线与所述第一测量线之间的夹角为计算夹角，通过所述拍照模块的安装位置获得所述计算夹角的正弦值；计算所述沟槽的实际深度，此时所述沟槽的实际深度由以下公式计算得到：Hm＝Lm÷Sin∠α式中，Hm为所述沟槽的实际深度；Lm为所述检测图像中的检测长度；Sin∠α为所述计算夹角的正弦值；所述获取检测图像的步骤中，获取的所述检测图像至少包含所述沟槽在远离所述拍照模块一侧的槽底；所述检测长度为所述第二标记光线在该侧槽底的端点和所述第一标记光线距离该侧槽底最近的端点之间的间距长度；所述计算夹角的正弦值通过以下公式计算获得：Cos∠α＝Lc÷LbSin∠α2+Cos∠α2＝1式中，Cos∠α为所述计算夹角的余弦值；Lb为所述第二测量线的长度；Lc为所述第一测量线的长度。

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