恭喜应用材料公司凯文·莫雷斯获国家专利权
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龙图腾网恭喜应用材料公司申请的专利沉积掩模、及制造和使用沉积掩模的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113490762B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080017200.1，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权沉积掩模、及制造和使用沉积掩模的方法是由凯文·莫雷斯;亚历山大·N·勒纳设计研发完成，并于2020-02-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本沉积掩模、及制造和使用沉积掩模的方法在说明书摘要公布了：大体而言，本文描述的示例关于沉积掩模以及制造和使用这种沉积掩模的方法。示例包括用于形成沉积掩模的方法。掩模层沉积在基板上。穿过掩模层图案化掩模开口。基板的中央部分被移除以限定穿过基板的周边部分的基板开口。具有穿过掩模层的掩模开口的掩模层延伸跨越基板开口。
本发明授权沉积掩模、及制造和使用沉积掩模的方法在权利要求书中公布了：1.一种用于形成用于蒸发沉积的沉积掩模的方法，所述方法包含以下步骤：在基板上沉积掩模层；穿过所述掩模层图案化多个掩模开口；及移除所述基板的中央部分以限定穿过所述基板的周边部分的基板开口，具有穿过所述掩模层的所述掩模开口的所述掩模层延伸跨越所述基板开口，其中穿过所述掩模层的所述掩模开口具有相应的所述掩模开口的深度与相应的所述掩模开口的宽度的比率，所述比率是1:1或更小，其中在所述基板上沉积所述掩模层的步骤包括：在所述基板上沉积第一导电掩模层；在所述第一导电掩模层上沉积绝缘掩模层；及在所述绝缘掩模层上沉积第二导电掩模层，其中所述第一导电掩模层和所述第二导电掩模层形成为电阻加热元件。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人应用材料公司，其通讯地址为：美国加利福尼亚州；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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