恭喜关东电化工业株式会社清水久志获国家专利权
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龙图腾网恭喜关东电化工业株式会社申请的专利包含含硫碳氟化合物的干蚀刻气体组合物和使用其的干蚀刻方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112912994B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980070063.5，技术领域涉及：H01L21/3065；该发明授权包含含硫碳氟化合物的干蚀刻气体组合物和使用其的干蚀刻方法是由清水久志;加藤惟人设计研发完成，并于2019-10-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本包含含硫碳氟化合物的干蚀刻气体组合物和使用其的干蚀刻方法在说明书摘要公布了：提供：包含含硫化合物的、相对于低介电常数材料低‑k材料SiON、SiCN、SiOCN、SiOC能对SiO2选择性地进行蚀刻的新型蚀刻气体组合物。一种干蚀刻气体组合物，其包含用通式1：CxFySz式中，x、y和z为2≤x≤5、y≤2x、1≤z≤2表示的、饱和且环状的含硫碳氟化合物。
本发明授权包含含硫碳氟化合物的干蚀刻气体组合物和使用其的干蚀刻方法在权利要求书中公布了：1.一种干蚀刻方法，其包括如下工序：使用包含用通式1：CxFySz表示的、饱和且环状的含硫碳氟化合物的干蚀刻气体组合物，对包含SiO2以及选自SiOC、SiCN、SiOCN、SiON以及非晶碳中的至少1种的层叠结构体进行等离子体蚀刻，对SiO2选择性地进行蚀刻，式中，x、y和z为2≤x≤5、y≤2x、1≤z≤2，其中，所述含硫碳氟化合物为2,2,3,3,4,4,5,5-八氟四氢噻吩，所述干蚀刻气体组合物除所述含硫碳氟化合物之外，还包含含氧化合物，所述含氧化合物为选自由O2、O3、CO、CO2、NO、NO2、SO2和SO3组成的组中的至少1种，所述含氧化合物相对于所述含硫碳氟化合物与所述含氧化合物的总量的比率为20～33％。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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