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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利显影处理装置和显影处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113311672B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110220216.9，技术领域涉及：G03F7/30；该发明授权显影处理装置和显影处理方法是由田中公一朗;福田昌弘设计研发完成，并于2021-02-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本显影处理装置和显影处理方法在说明书摘要公布了：提供显影处理装置和显影处理方法：短尺寸的第1显影液供给部和长度为俯视时基板直径以上的长尺寸的第2显影液供给部能共用接收从基板飞散的显影液的液接收部。显影处理装置对基板上的抗蚀膜进行显影，具有：基板保持部，将基板保持为水平；旋转机构，使基板保持部绕铅垂轴旋转；第1和第2显影液供给部，向基板供给显影液；以及液接收部，接收来自基板的显影液，第1显影液供给部长度为俯视时小于基板直径，第2显影液供给部长度为俯视时基板直径以上，液接收部的环状的第1和第2环状壁具有俯视时直径大于基板直径的圆状的开口，第2环状壁设于第1环状壁上方，第1和第2环状壁能彼此独立升降，第1环状壁与第2环状壁在铅垂方向上距离可变。

本发明授权显影处理装置和显影处理方法在权利要求书中公布了：1.一种显影处理装置，其用于对基板上的抗蚀膜进行显影，其中，该显影处理装置具有：基板保持部，其将基板保持为水平；旋转机构，其使所述基板保持部绕铅垂轴线旋转；第1显影液供给部和第2显影液供给部，它们向保持于所述基板保持部的基板供给显影液；以及液接收部，其接收来自保持于所述基板保持部的基板的显影液，所述第1显影液供给部形成为俯视时小于基板的直径的长度，所述第2显影液供给部形成为俯视时大于等于基板的直径的长度，所述液接收部具有第1环状壁和第2环状壁，该第1环状壁和第2环状壁形成为具有俯视时直径大于基板的直径的圆状的开口的环状，所述第2环状壁设于所述第1环状壁的上方，所述第1环状壁和所述第2环状壁构成为能够彼此独立地升降，所述第1环状壁与所述第2环状壁的铅垂方向上的距离可变。

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