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龙图腾网恭喜吉林大学申请的专利一种用于组织样本的微阵列化方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115165491B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210784857.1，技术领域涉及：G01N1/28；该发明授权一种用于组织样本的微阵列化方法是由张俊虎;于年祚;梁重阳;张斐然;金正洋;杨柏设计研发完成，并于2022-06-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于组织样本的微阵列化方法在说明书摘要公布了：本发明适用于生物材料领域，提供了一种用于组织样本的微阵列化方法，包括以下步骤：将修饰有高密度功能涂层的微井阵列基片和组织置于切片机中，微井内功能涂层用于将组织阵列粘附于微井的侧壁或底部，将组织切片贴附于微井阵列基片表面，除去微井阵列外的组织，微井处的组织被原位截留在微井阵列中，得到高通量的组织微阵列。组织微阵列化方法套件主要包含修饰有高密度功能涂层的微井阵列基片，本发明的套件能够将组织样本分割成独立的微米级组织块，实现组织样本的高通量阵列化，避免了组织微阵列间核酸、蛋白等信息的交叉污染，在提高组织分割效率的同时简化了操作步骤，降低了整个过程的仪器成本。

本发明授权一种用于组织样本的微阵列化方法在权利要求书中公布了：1.一种用于组织样本的微阵列化方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一、制备修饰有高密度功能涂层的微井阵列基片，微井内功能涂层将组织粘附于微井的侧壁或底部；所述功能涂层为水凝胶涂层、分子刷涂层和聚合物涂层中的一种；所述水凝胶涂层为以高密度羧基为支链的水凝胶基团，得到水凝胶涂层的具体操作为：首先，氧气等离子体处理基片使其表面接枝羟基，通过气相沉积技术接枝3-氨基丙基三甲氧基硅烷，使用无水二氯乙烷溶解的三乙胺溶液孵育基片表面，再加入2-溴异丁酰溴以使聚合反应引发剂接枝到氨基基团，在氮气氛围下加入其单体甲基丙烯酸羟乙酯、甲基二乙醇胺，脱气后加入氯化铜以防止氧化，聚合温度保持在37℃，待单体聚合1-9h后清洗表面，得到具有高密度羧基基团的基片表面；所述修饰有高密度功能涂层的微井阵列基片的具体制备操作采用以下两种中的一种：采用光刻技术制备光刻胶阵列，再以刻蚀方法刻蚀光刻胶阵列表面，得到微井结构阵列，除去光刻胶，采用高密度功能涂层修饰技术对微井中的表面进行修饰，再采用光刻技术在功能涂层表面形成光刻胶，采用化学修饰技术对微井阵列外的表面进行疏水修饰，除去微井表面光刻胶；在基片表面旋涂一层光刻胶，以透明的点阵式光刻掩膜版为基础进行光刻过程，留下光刻胶阵列，再以C4F8、SF6、O2为等离子体轰击光刻胶阵列表面，得到带有垂直边缘的微井结构阵列，再以O2为等离子体轰击微井阵列基片，采用高密度功能涂层修饰技术对微井中的表面进行修饰，再在表面旋涂一层光刻胶，以非透明的点阵式光刻掩膜版为基础，除去微井以外表面的光刻胶，再以O2为等离子体轰击微井阵列基片，采用化学修饰技术对微井阵列外的表面进行疏水修饰；步骤二、将组织切片贴附于微井阵列基片表面，微井处的组织被原位截留在微井阵列中，得到高通量的组织微阵列；所述步骤二中，将组织切片贴附于微井阵列基片表面后，通过器具施压于组织切片的方式分割组织切片或使得组织切片下沉，通过器具去除微井阵列外基片表面的组织切片。

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