恭喜北京市园林绿化科学研究院孙宏彦获国家专利权
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龙图腾网恭喜北京市园林绿化科学研究院申请的专利结构土及行道树种植系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115885808B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211140576.9，技术领域涉及：A01G24/12；该发明授权结构土及行道树种植系统是由孙宏彦;舒健骅;王茂良;刘思;王永格;赵世伟;李延明设计研发完成，并于2022-09-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本结构土及行道树种植系统在说明书摘要公布了：本发明涉及结构土及行道树种植系统，至少包括用于提供支撑的石子、用于提供养分的土壤、用于增加基质保水性的保水剂和水。结构土为由0.8‑1.2方石子、0.1‑0.5方土、0.05‑0.5方有机质2.5‑5.5千克保水剂和0.12‑0.23方水配制成结构土一和由0.8‑1.2方石子、0.2‑0.6方土、3‑5千克保水剂、0.1‑0.3方水配制成的结构土二。行道树种植系统包括栽植坑和围绕所述栽植坑设置的垫层，所述垫层包括设置于素土层上方的结构土层和设置于结构土层上方的铺面层，结构土层包括结构土一或结构土二，利用结构土一或结构土二为树木根系提供生长空间和养分，促进树木根系和地上部的生长发育。
本发明授权结构土及行道树种植系统在权利要求书中公布了：1.一种行道树种植系统，其特征在于，包括栽植坑和围绕所述栽植坑设置的垫层，所述垫层自地表向下包括铺面层、第一基质层、第二基质层和素土层，所述第一基质层为配方为0.8-1.2方石子、0.1-0.5方土、0.05-0.5方有机质、2.5-5.5千克保水剂和0.12-0.23方水的结构土一；所述第二基质层为配方为0.8-1.2方石子、0.2-0.6方土、3-5千克保水剂、0.1-0.3方水的结构土二；在所述第一基质层和所述第二基质层中，石块间的孔隙度为：35%-50%，石子和土壤的质量比为2-3.7：1；所述有机质为用于保温透气、增加水分入渗率并为植物提供有机营养成分的有机质。
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