恭喜浙江同越光学科技有限公司夏菁菁获国家专利权
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龙图腾网恭喜浙江同越光学科技有限公司申请的专利一种光学元件表面形貌特征提取识别的方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119085543B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-25发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411300801.X,技术领域涉及:G01B11/30;该发明授权一种光学元件表面形貌特征提取识别的方法是由夏菁菁;齐润泽;黄秋实设计研发完成,并于2024-09-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光学元件表面形貌特征提取识别的方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种光学元件表面形貌特征提取识别的方法,包括以下步骤:获取二维表面形貌信息;局部形貌特征识别与过滤;计算二维功率谱密度函数,径向平均获得一维功率谱密度函数;线性拟合双对数坐标下的一维功率谱密度函数,得到斜率p与截距q;根据拟合结果,计算表面形貌各向同性和各向异性分量的二维提取因子Ciso,Canis;逆计算表面形貌各向同性和各向异性分量的二维傅里叶变换分量和采用傅里叶逆变换得到各向同性和各向异性的二维表面形貌分量hrecons;最后评价二维形貌成分。本发明采用上述的一种光学元件表面形貌特征提取识别的方法,能够精确提取并分离耦合的各向同性和各向异性分量,可用于化学机械抛光抛光等表面加工方法的参数分析和终点判断。
本发明授权一种光学元件表面形貌特征提取识别的方法在权利要求书中公布了:1.一种光学元件表面形貌特征提取识别的方法,其特征在于:包括以下步骤:S1、制备不同形貌特征的表面样品;S2、通过表面形貌检测仪器获取二维表面形貌高度信息;S3、局部形貌特征识别与过滤;S4、应用Welch窗口减少采样误差,计算二维功率谱密度PSD结果;S5、使用径向平均的方法获得一维功率谱密度PSDn结果;S6、线性拟合双对数坐标下的一维功率谱密度PSDn结果,得到拟合曲线的斜率p与截距q;S7、根据一维功率谱密度PSDn结果、拟合斜率p和截距q,计算表面形貌各向同性和各向异性分量的二维提取因子Ciso,Canis;S8、逆计算表面形貌各向同性和各向异性分量的二维傅里叶变换分量和S9、采用傅里叶逆变换得到各向同性和各向异性的二维表面形貌分量hrecons;S10、对提取的各向同性和各向异性的二维形貌成分进行评价;步骤S7中,所述根据一维功率谱密度PSDn结果、拟合斜率和截距,所述各向同性和各向异性分量的二维提取因子Ciso,Canis写作: 其中,Ciso代表分形表面的圆形斑点,Canis是在最小化各向同性表面成分后剩余的信息。
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