恭喜祥符实验室牛赛赛获国家专利权
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龙图腾网恭喜祥符实验室申请的专利一种仿生纳微结构的制备方法及仿生纳微结构在DNA合成中的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118978124B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411455213.3，技术领域涉及：B81C1/00；该发明授权一种仿生纳微结构的制备方法及仿生纳微结构在DNA合成中的应用是由牛赛赛;王卫东设计研发完成，并于2024-10-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种仿生纳微结构的制备方法及仿生纳微结构在DNA合成中的应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种仿生纳微结构的制备方法及仿生纳微结构在DNA合成中的应用，本发明的仿生纳微结构为反蛋白石结构，其制备方法为在含有角锥形凹陷的基材表面刮涂可形成蛋白石结构的涂料，然后经涂层固化、溶解蛋白石结构、烧结后形成较高孔隙率的反蛋白石纳微结构。合成DNA的过程为：在基材的角锥形凹陷中制备反蛋白石结构，通过刮涂的方式向角锥形凹陷内依次加入通用型固相载体、脱保护剂、ATCG碱基单体、活化剂、盖帽剂、氧化剂。本发明的有益效果为：由于反蛋白石结构具有选择性反射特定波长和透射其它波长的作用，上述各步反应在特定波长的光辅助下，可以有效提高DNA的合成速度。
本发明授权一种仿生纳微结构的制备方法及仿生纳微结构在DNA合成中的应用在权利要求书中公布了：1.一种仿生纳微结构在DNA合成中的应用，其特征在于，S1该仿生纳微结构由下述仿生纳微结构的制备方法制得：1基材及表面角锥形微结构通过光刻技术在基材表面构建角锥形凹陷的阵列；2制备反蛋白石仿生纳微结构在凹陷内制备仿生纳微结构；S2DNA合成，包括下述步骤：1在反蛋白石结构内刮涂填充通用型固相载体，填充完毕后120-200℃烧结，烧结时间5-10min；2冷却至室温后向微孔内依次刮涂填充脱保护剂、ATCG碱基单体、活化剂、盖帽剂、氧化剂合成DNA，每次反应辅助光的特征波长为350-2000nm，反应后需要冲洗。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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