恭喜关东电化工业株式会社清水久志获国家专利权
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龙图腾网恭喜关东电化工业株式会社申请的专利包含具有不饱和键的含硫碳氟化合物的干蚀刻气体组合物和使用其的干蚀刻方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112956002B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980070061.6，技术领域涉及：H01L21/3065；该发明授权包含具有不饱和键的含硫碳氟化合物的干蚀刻气体组合物和使用其的干蚀刻方法是由清水久志;加藤惟人设计研发完成，并于2019-10-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本包含具有不饱和键的含硫碳氟化合物的干蚀刻气体组合物和使用其的干蚀刻方法在说明书摘要公布了：提供：包含含硫不饱和化合物的、对硅系膜的层叠结构体的蚀刻用途有用的新型蚀刻气体组合物。一种干蚀刻气体组合物，其包含用通式1：CxFySz式中，x、y和z为2≤x≤5、y≤2x、1≤z≤2表示的、具有不饱和键的含硫碳氟化合物。
本发明授权包含具有不饱和键的含硫碳氟化合物的干蚀刻气体组合物和使用其的干蚀刻方法在权利要求书中公布了：1.一种干蚀刻气体组合物，其包含用通式1：CxFySz表示的、具有不饱和键的含硫碳氟化合物，式中，x、y和z为2≤x≤5、y≤2x、1≤z≤2，其中，所述干蚀刻气体组合物除所述含硫碳氟化合物之外，还包含选自由O2、O3、CO、CO2、NO、NO2、SO2和SO3组成的组中的至少1种含氧化合物，所述含氧化合物的比率相对于所述通式1所示的化合物与所述含氧化合物的总量为5～80％，所述含硫碳氟化合物为选自 2,2,3,4,5,5-六氟-2,5-二氢噻吩、 三氟乙烯基三氟甲基硫醚、 1,1,2,3,4,5-六氟-1,1-二氢噻吩、 2,3-双三氟甲基噻丙烯、 3,3,3-三氟-2-三氟甲基-1-丙烯-1-氯化亚砜、 2,2,3,3,4,5-六氟-2,3-二氢噻吩、 2,2,3,4,4-五氟-3-丁烯亚硫酰氟、 2,2,3,3,3-五氟-丙烷亚硫酰氟、 1,1,1,3,3,3-六氟-2-丙硫酮、 1,3,3,3-四氟-2-三氟甲基-1-丙烯-1-磺酰氟、 1,1,1,3,3,4,4,4-八氟-2-丁硫酮、 2,3,4,5-四氟噻吩中的至少一种。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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