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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利等离子体处理方法和等离子体处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111725046B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010177559.7，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权等离子体处理方法和等离子体处理装置是由酒井永典设计研发完成，并于2020-03-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本等离子体处理方法和等离子体处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种等离子体处理方法和等离子体处理装置，能够高精度地判定等离子体处理装置的内壁的状态。使用了测定等离子体处理装置内的等离子体发光强度的检测器的等离子体处理方法包括以下工序：利用所述检测器来检测使用具有第一光轴的光测定出的第一等离子体发光强度，所述第一光轴是通过等离子体的生成区域后到达所述等离子体处理装置的内壁的光轴；利用所述检测器来检测使用具有第二光轴的光测定出的第二等离子体发光强度，所述第二光轴是以不通过等离子体的生成区域的方式到达所述等离子体处理装置的内壁的光轴；以及基于检测出的所述第一等离子体发光强度与所述第二等离子体发光强度的差或比率，来判定所述等离子体处理装置的内壁的状态。

本发明授权等离子体处理方法和等离子体处理装置在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理方法，其利用等离子体处理装置来执行，所述等离子体处理装置具有：处理容器；载置台，其配置于所述处理容器内；喷淋头，其配置于所述载置台的上方并且用于在所述处理容器内供给气体；电源，其向所述载置台或所述喷淋头施加电力；以及检测器，其测定所述处理容器内的等离子体发光强度，其中，利用所述喷淋头供给的所述气体以及所述电源施加的所述电力在沿所述处理容器的高度方向上的平面图中的所述载置台的上方或所述喷淋头的下方生成等离子体，所述等离子体处理方法包括以下工序：开始所述等离子体处理装置内的调节；利用所述检测器来检测第一等离子体发光强度，所述第一等离子体发光强度是在所述平面图中沿第一方向通过所述等离子体并入射到所述检测器上的第一光的强度；利用所述检测器来检测第二等离子体发光强度，所述第二等离子体发光强度是从所述等离子体处理装置的内壁沿第二方向入射到所述检测器上的第二光的强度，所述第二光在所述平面图中与所述等离子体不重叠；基于检测出的所述第一等离子体发光强度与所述第二等离子体发光强度的差或比率，来判定所述等离子体处理装置的内壁的状态；以及基于判定出的所述等离子体处理装置的内壁的状态来结束所述调节。

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