恭喜朗姆研究公司斯蒂芬·J·巴尼克二世获国家专利权
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龙图腾网恭喜朗姆研究公司申请的专利先进封装应用的差别对比镀覆获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114514340B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080067446.X，技术领域涉及：C25D7/12；该发明授权先进封装应用的差别对比镀覆是由斯蒂芬·J·巴尼克二世;雅各布·柯蒂斯·布里肯斯德费尔;凯拉什·文卡特拉曼;贾斯廷·奥伯斯特;蔡利鹏;布莱恩·L·巴卡柳;史蒂芬·T·迈耶设计研发完成，并于2020-07-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本先进封装应用的差别对比镀覆在说明书摘要公布了：提供将金属电镀至衬底上部分制成的电子装置的特征具有实质上不同深度中的方法。该方法包括将加速剂吸附至凹陷特征的底部中；在电镀溶液中通过自下向上填充机制部分地填充特征；使整平剂扩散至浅特征中，以相比于深特征而降低浅特征中的镀覆速率；以及将更多金属电镀至特征中，以使深特征中的金属高度近似于浅特征中的金属高度。
本发明授权先进封装应用的差别对比镀覆在权利要求书中公布了：1.一种电镀金属至衬底的特征中的方法，所述衬底包括部分制成的电子装置，其具有在金属晶种层上的光致抗蚀剂层中的特征，所述方法包括：a将衬底的表面暴露于包含加速剂化合物的预加速溶液；b将所述衬底的至少所述表面浸入包含所述金属的离子、抑制剂和整平剂的电镀溶液，所述整平剂的类型是相对于所述衬底表面的较凹陷区域，降低所述衬底表面的较暴露区域的镀覆速率；c在所述衬底的所述表面浸入所述电镀溶液中时，将所述金属电镀至所述特征中，以部分地填充所述特征；以及d将所述衬底从所述电镀溶液移走，其中当由上往下观看所述衬底时，所述光致抗蚀剂层中的所述特征具有不同深度、不同负载、不同形状和或不同关键尺寸、及其组合。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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