恭喜应用材料公司S·盛获国家专利权
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龙图腾网恭喜应用材料公司申请的专利用于高频处理的盖堆叠获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115398031B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180026629.1，技术领域涉及：C23C16/44；该发明授权用于高频处理的盖堆叠是由S·盛;L·张;J·C·沃纳设计研发完成，并于2021-04-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于高频处理的盖堆叠在说明书摘要公布了：示例性半导体处理腔室可包括基板支撑件，基板支撑件定位在半导体处理室的处理区域内。腔室可包括盖板。腔室可包括定位在盖板和基板支撑件之间的气箱。气箱的特征可在于第一表面和与第一表面相对的第二表面。气箱可以限定中心孔。气箱可在气箱的第一表面中限定环形通道，环形通道围绕中心孔延伸穿过气箱。气箱可包含环形外罩，环形外罩跨限定在气箱第一表面中的环形通道延伸。腔室可以包括阻隔板，阻隔板定位于气箱与基板支撑件之间。腔室可包含铁氧体块，铁氧体块定位在盖板与阻隔板之间。
本发明授权用于高频处理的盖堆叠在权利要求书中公布了：1.一种半导体处理腔室，包含：基板支撑件，所述基板支撑件定位在所述半导体处理腔室的处理区域内；盖板；气箱，所述气箱定位在所述盖板与所述基板支撑件之间，所述气箱的特征在于第一表面和与所述第一表面相对的第二表面，其中所述气箱限定中心孔，其中所述气箱在所述气箱的所述第一表面中限定环形通道，所述环形通道围绕所述中心孔延伸通过所述气箱，其中所述气箱在所述气箱的所述第一表面中限定凹入壁架，所述凹入壁架围绕所述环形通道延伸，并且其中所述气箱包含环形外罩，所述环形外罩安置在所述凹入壁架上并且跨限定在所述气箱的所述第一表面中的所述环形通道延伸；阻隔板，所述阻隔板定位在所述气箱和所述基板支撑件之间，其中所述阻隔板限定多个孔，所述多个孔用作节流阀以用于使气体通过所述节流阀流动；铁氧体块，所述铁氧体块定位在所述盖板与所述阻隔板之间；以及面板，所述面板定位在所述阻隔板和所述基板支撑件之间。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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