恭喜重庆康佳光电科技有限公司苏财钰获国家专利权
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龙图腾网恭喜重庆康佳光电科技有限公司申请的专利静电吸盘装置、干蚀刻设备及干蚀刻方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114023683B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111079897.8，技术领域涉及：H01L21/683；该发明授权静电吸盘装置、干蚀刻设备及干蚀刻方法是由苏财钰;伍凯义;杨然翔;喻兵;伍修颀设计研发完成，并于2021-09-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本静电吸盘装置、干蚀刻设备及干蚀刻方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种静电吸盘装置、干蚀刻设备及干蚀刻方法，静电吸盘装置包括基座、电介质层、电极电路及供电电路，电极电路包括多个独立的正电极和负电极，多个正电极与多个负电极相互交错分散并相互绝缘设置，供电电路包括与正电极连接的正电源供电子电路，及与负电极连接的负电源供电子电路，供电电路具有切换选择功能，能实现单电极吸附与双电极吸附的切换控制；基于静电吸盘装置中供电电路的切换选择，既能吸附半导体基板，同时，基于静电吸盘装置的正电极与干蚀刻设备中电浆的负电荷之间的库伦吸引力又能吸附非导体基板，实现了半导体基板与非导体基板的兼容吸附，提高了机台的利用效率。
本发明授权静电吸盘装置、干蚀刻设备及干蚀刻方法在权利要求书中公布了：1.一种静电吸盘装置，其特征在于，应用于干蚀刻设备，所述干蚀刻设备包括蚀刻腔体，所述静电吸盘装置设置于所述蚀刻腔体的底部，所述静电吸盘装置包括：基座；电介质层，设置于所述基座上；以及电极电路，包括正电极子电路和负电极子电路，所述正电极子电路包括多个独立的正电极，所述负电极子电路包括多个独立的负电极，各所述正电极与各所述负电极分散于所述电介质层中；其中，在所述电介质层上放置的基板为半导体基板时，所述正电极子电路和所述负电极子电路均导通以实现双电极吸附；在所述电介质层上放置的基板为非导体基板时，所述蚀刻腔体内产生电浆，所述正电极子电路导通且所述负电极子电路断开以实现单电极吸附。
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