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龙图腾网恭喜南通伟腾半导体科技有限公司申请的专利一种半导体自动化的碱蚀刻设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114783914B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210388591.9，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权一种半导体自动化的碱蚀刻设备是由朱恺华;赵正东;王百强设计研发完成，并于2022-04-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种半导体自动化的碱蚀刻设备在说明书摘要公布了：本发明公开了一种半导体自动化的碱蚀刻设备，其结构包括机架，机架上设有半导体的碱蚀刻区，碱蚀刻区顶部的两侧设有两个相互平行的导轨，导轨上均设有可滑动的底板，两个底板均沿着碱蚀刻区的延伸方向进行循环往复滑动且滑动方向始终相反，底板上设有可活动的滑板，滑板在底板上的活动位置分别设为移动区、工位区，滑板的端部设有升降气缸，升降气缸的输出端设有自转电机，自转电机的输出端朝下且设有半导体的固定槽，滑板在移动区时，两个滑板的端部之间保持有安全距离，滑板在工位区时，固定槽位于碱蚀刻区的正上方，本发明提高了半导体的碱蚀刻效率。

本发明授权一种半导体自动化的碱蚀刻设备在权利要求书中公布了：1.一种半导体自动化的碱蚀刻设备，其结构包括机架（1），其特征在于：所述机架（1）上设有半导体的碱蚀刻区（101），所述碱蚀刻区（101）顶部的两侧设有两个相互平行的导轨（2），所述导轨（2）上均设有可滑动的底板（21），两个所述底板（21）均沿着所述碱蚀刻区（101）的延伸方向进行循环往复滑动且滑动方向始终相反，所述底板（21）上设有可活动的滑板（22），所述滑板（22）在所述底板（21）上的活动位置分别设为移动区、工位区，所述滑板（22）的端部设有升降气缸（23），所述升降气缸（23）的输出端设有自转电机（24），所述自转电机（24）的输出端朝下且设有半导体的固定槽（25），所述滑板（22）在所述移动区时，两个所述滑板（22）的端部之间保持有安全距离，所述滑板（22）在所述工位区时，所述固定槽（25）位于所述碱蚀刻区（101）的正上方；所述机架（1）上设有固定框架（4），所述导轨（2）固定在所述固定框架（4）上，所述固定框架（4）上设有平行于所述导轨（2）的横向齿条（41），所述底板（21）的底部设有可转动的驱动齿轮（42），所述底板（21）上设有驱动所述驱动齿轮（42）转动的驱动电机（43），所述驱动齿轮（42）啮合连接在所述横向齿条（41）上；所述底板（21）的底部设有垂直向下的竖板（5），所述固定框架（4）的侧面设有导向轨道（51），所述导向轨道（51）平行于所述导轨（2），所述竖板（5）上设有滑块（52），所述滑块（52）滑动设置在所述导向轨道（51）上；所述竖板（5）的底部设有平行于水平面的固定板（6），所述固定板（6）上设有可滑动的残液收集槽（61），所述残液收集槽（61）的滑动方向靠近或者远离所述碱蚀刻区（101），所述升降气缸（23）带动所述固定槽（25）移动到所述碱蚀刻区（101）的上方时，所述残液收集槽（61）的滑动位置始终位于所述固定槽（25）的正下方，所述升降气缸（23）带动所述固定槽（25）向所述碱蚀刻区（101）的内部移动时，所述残液收集槽（61）远离所述碱蚀刻区（101）进行滑动。

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