恭喜荣芯半导体(宁波)有限公司郭彬获国家专利权
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龙图腾网恭喜荣芯半导体(宁波)有限公司申请的专利栅氧完整性测试结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119133153B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411587245.9，技术领域涉及：H01L23/544；该发明授权栅氧完整性测试结构是由郭彬设计研发完成，并于2024-11-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本栅氧完整性测试结构在说明书摘要公布了：本发明提供一种栅氧完整性测试结构。所述栅氧完整性测试结构包括形成于基底内的有源区以及在基底上自下而上堆叠的栅氧化层、栅电极和定位结构；定位结构位于栅电极上方的第一金属层中，定位结构包括阵列排布的多个定位单元，每个定位单元中的标记图形对每个定位单元进行独立标号，定位结构利用定位单元对栅氧化层中的失效点位置进行定位。如此栅氧完整性测试结构可以准确地定位失效点位置，提高失效分析效率，适用范围广且制程可实现性强。
本发明授权栅氧完整性测试结构在权利要求书中公布了：1.一种栅氧完整性测试结构，其特征在于，包括形成于基底内的有源区以及在所述基底上自下而上堆叠的栅氧化层、栅电极和定位结构；所述定位结构位于所述栅电极上方的第一金属层中，所述定位结构包括阵列排布的多个定位单元，每个所述定位单元中的标记图形对每个所述定位单元进行独立标号，所述定位结构利用所述定位单元对所述栅氧化层中的失效点位置进行定位；每个所述定位单元包括多个第一标记图形、至少一个第二标记图形和至少一个第三标记图形；针对一个所述定位单元，多个所述第一标记图形排成一行，所述第二标记图形和所述第三标记图形设置在多个所述第一标记图形的侧边，利用所述第二标记图形的数量以及所述第二标记图形与多个所述第一标记图形的位置关系来标记所述定位单元在所述定位结构中的行数，利用所述第三标记图形的数量以及所述第三标记图形与多个所述第一标记图形的位置关系来标记所述定位单元在所述定位结构中的列数。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人荣芯半导体(宁波)有限公司，其通讯地址为：315809 浙江省宁波市北仑区柴桥街道金水桥路28号4幢1号1层-1；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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