买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网恭喜安集微电子科技(上海)股份有限公司申请的专利一种适用于去除正负光刻胶的清洗液获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112578647B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201910938660.7，技术领域涉及：G03F7/42；该发明授权一种适用于去除正负光刻胶的清洗液是由孙广胜;刘兵;周前付设计研发完成，并于2019-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种适用于去除正负光刻胶的清洗液在说明书摘要公布了：本发明提供了一种用于去除光刻胶残留物的清洗液，含有季胺氢氧化物、醇胺、醇类溶剂、硅烷、肼及其衍生物、水，余量为有机溶剂。该清洗液在有效去除晶圆上的光刻胶残留物的同时，对于基材如金属铝、铜等基本无腐蚀，在半导体晶片清洗等领域具有良好的应用前景。

本发明授权一种适用于去除正负光刻胶的清洗液在权利要求书中公布了：1.一种用于去除光刻胶残留物的清洗液，其特征在于，所述清洗液由季胺氢氧化物，醇胺，醇类溶剂，硅烷，肼及其衍生物，水和有机溶剂组成；所述硅烷的含量为质量百分比0.1~8%；所述肼及其衍生物的含量为质量百分比0.05-5%；所述季胺氢氧化物为选自四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、十六烷基三甲基氢氧化铵和苄基三甲基氢氧化铵中的一种或多种；所述季胺氢氧化物的含量为质量百分比0.1-6%；所述醇胺为单乙醇胺、N-甲基乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、乙基二乙醇胺、N，N-二乙基乙醇胺、N-2-氨基乙基乙醇胺和二甘醇胺；所述醇胺的含量为质量百分比0.1-50%；所述醇类溶剂选自苯甲醇、乙二醇、丙二醇、丙三醇、四氢糠醇、环己醇、二丙二醇、二甘醇、1,2-丁二醇、3-甲氧基丁醇、1-苯氧基-2-丙醇、1,3-丁二醇中的一种或多种；所述醇类溶剂的含量为质量百分比0.1-25%；所述硅烷为选自四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、三甲氧基甲基硅烷、三甲氧基乙基硅烷、三甲氧基丙基硅烷、二甲氧基二甲基硅烷、二甲氧基二乙基硅烷、三乙氧基甲基硅烷和（3-氨丙基）三乙氧基硅烷中的一种或多种；所述肼及其衍生物选自肼、2-羟乙基肼、苯甲酰肼、水杨酰肼、乙酰肼、苯磺酰肼、碳酰肼、肼基甲酸甲酯，月桂酰肼，肼基甲酸叔丁酯、肼基甲酸乙酯、肼基甲酸、肼基二硫代甲酸甲酯、甲酰肼、己二酸二酰肼、丁酰肼中的一种或多种；所述水的含量为质量百分比0.1-10%；所述有机溶剂为亚砜、砜、咪唑烷酮、吡咯烷酮、咪唑啉酮、酰胺中的一种或多种；所述酰胺为二甲基甲酰胺和二甲基乙酰胺中的一种或多种。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人安集微电子科技(上海)股份有限公司，其通讯地址为：201201 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区(南区)T6-9幢底层；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。