恭喜中国科学院理化技术研究所孙承华获国家专利权
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龙图腾网恭喜中国科学院理化技术研究所申请的专利一种高分辨率的冷中子成像材料及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114578409B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011291442.8，技术领域涉及：G01T3/00；该发明授权一种高分辨率的冷中子成像材料及其制备方法和应用是由孙承华;陈龙;周树云;符玉华;胡秀杰设计研发完成，并于2020-11-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高分辨率的冷中子成像材料及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开一种高分辨率的冷中子成像材料，所述冷中子成像材料中包含氧化钆与乳剂。该材料的设计突破了耦合屏的限制，提高了材料的分辨率；该材料在冷中子成像领域的分辨率可达10μm。本发明还公开了该冷中子成像材料的制备方法和应用。
本发明授权一种高分辨率的冷中子成像材料及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种高分辨率的冷中子成像材料在冷中子成像领域中的应用，其特征在于，所述冷中子成像材料中包含氧化钆与乳剂；所述氧化钆与乳剂的质量比为0.5-50；所述冷中子成像材料中，氧化钆颗粒粒径为10nm-5μm，乳剂颗粒粒径为0.5-2μm；所述乳剂为溴碘化银乳剂；所述冷中子成像材料用于冷中子成像领域时，不需要耦合屏的参与，可直接成像。
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