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龙图腾网恭喜皇家飞利浦有限公司申请的专利用于口腔清洁和/或处理装置的清洁单元获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115666326B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180038399.0，技术领域涉及：A46B15/00；该发明授权用于口腔清洁和/或处理装置的清洁单元是由L·P·H·舍费尔斯;R·巴特;C·R·荣达;L·C·格哈特;M·T·约翰森设计研发完成，并于2021-05-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于口腔清洁和/或处理装置的清洁单元在说明书摘要公布了：口腔清洁单元，例如用于口腔清洁和或处理装置的头部，包括用于产生RF场以提供口腔清洁和或处理功能的电极。该单元包括至少第一突出结构和第二突出结构，该第一突出结构和第二突出结构在相同的大体方向上远离基部或支撑结构突出。每个电极被包括一个或多个电极。这些突出结构被布置成彼此面对并且由一个空间或间隙分开，该空间或间隙被配置成能够接纳在该第一突出结构与第二突出结构之间被推动或插入其中的齿，并且这些突出结构在该齿的任一侧上延伸，即跨过该齿。当电极由RF信号适当地驱动时，这允许由突出结构构成的RF电极到达在牙齿侧面至少部分地向下的位置，更靠近齿间空间，使得能够更好地清洁齿间空间，并且可选地还使用与牙齿特征相互作用的RF能量场进行感测。

本发明授权用于口腔清洁和/或处理装置的清洁单元在权利要求书中公布了：1.一种用于基于RF能量的口腔清洁和或处理装置的清洁单元10，所述清洁单元用于被接纳在用户的口腔中，所述清洁单元包括：第一突出结构14a，所述第一突出结构从所述清洁单元的表面向外延伸，所述第一突出结构包括一个或多个第一电极18a，第二突出结构14b，所述第二突出结构从所述清洁单元的表面向外延伸并且包括一个或多个第二电极18b，其中所述一个或多个第一电极和所述一个或多个第二电极适于被RF驱动信号驱动以产生RF电磁场；所述第二突出结构与所述第一突出结构间隔开一间隙16，其中所述间隙包括空间，所述空间从所述第一突出结构延伸至所述第二突出结构，其中所述间隙16被布置成使得至少一个齿22能够被接纳在所述第一突出结构与所述第二突出结构之间的所述间隙中，并且所述第一突出结构和所述第二突出结构在所述间隙的任一侧上延伸，其中当所述至少一个齿被接纳在所述间隙中时，所述第一突出结构和所述第二突出结构在所述齿的外侧表面至少部分地向下延伸，其中所述第一突出结构14a和所述第二突出结构14b各自包括多个突出构件，并且其中每个突出结构中的所述突出构件的至少一部分是柔性的。

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