恭喜一塔半导体(安徽)有限公司王涛获国家专利权
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龙图腾网恭喜一塔半导体(安徽)有限公司申请的专利一种应用于MOCVD反应腔的导流装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN222613463U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-14发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202420425300.3,技术领域涉及:C23C16/455;该实用新型一种应用于MOCVD反应腔的导流装置是由王涛;王永设计研发完成,并于2024-03-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种应用于MOCVD反应腔的导流装置在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种应用于MOCVD反应腔的导流装置,包括外圈尺寸与反应腔相匹配的导流环;所述导流环上沿周向均布有若干导流孔;所述导流环上还呈中心对称分布有两个螺杆通孔。本实用新型设置了外圈直径与反应腔相匹配的导流环,并且在导流环上沿周向均布设置了若干导流孔,使得流入反应腔底部的气体经过导流环的导向后,均匀地向反应腔底部扩散,从而提高了最终的衬底镀膜的均匀性。
本实用新型一种应用于MOCVD反应腔的导流装置在权利要求书中公布了:1.一种应用于MOCVD反应腔的导流装置,其特征在于:包括外圈尺寸与反应腔相匹配的导流环1;所述导流环1上沿周向均布有若干导流孔2;所述导流环1上还呈中心对称分布有两个螺杆通孔3。
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