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龙图腾网恭喜华海清科股份有限公司申请的专利化学机械抛光组合物及其在化学机械抛光中的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119144288B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411628960.2，技术领域涉及：C09K3/14；该发明授权化学机械抛光组合物及其在化学机械抛光中的应用是由方炳程;金军;仝开宇;陈佳蕊设计研发完成，并于2024-11-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本化学机械抛光组合物及其在化学机械抛光中的应用在说明书摘要公布了：本发明属于芯片制造技术领域，具体涉及化学机械抛光组合物及其在化学机械抛光中的应用。本发明所述纳米复合磨料是化学机械抛光组合物的组成部分，其包括少层石墨包覆的纳米级Al2O3磨料，纳米复合磨料中C元素的质量分数不高于10wt.%。本发明采用两步煅烧法制备出的少层石墨包覆的纳米级Al2O3磨料，通过在磨料界面引入石墨层间范德华力，成功取代Al2O3颗粒间的共价化学键，在不加入分散剂和硅烷偶联剂的条件下，也可实现磨料在抛光液中的均匀分散，降低抛光液的生产成本，并且本发明中磨料的均匀分散优势不会随抛光液pH值的变化而降低，均匀分散的磨料颗粒在抛光过程中能够更有效地与晶圆表面接触，提高粗抛效率。

本发明授权化学机械抛光组合物及其在化学机械抛光中的应用在权利要求书中公布了：1.一种纳米复合磨料，用于化学机械抛光，其特征在于，所述纳米复合磨料包括少层石墨包覆的纳米级Al2O3磨料，所述纳米复合磨料中C元素的质量分数为5wt.%-8wt.%，通过在磨料界面引入石墨层间范德华力，来取代Al2O3颗粒间的共价化学键，在不加入分散剂和硅烷偶联剂的条件下便实现磨料在抛光液中的均匀分散；少层石墨是通过有机铝盐两步煅烧获取的，其中，第一次煅烧是在真空气氛中，使得有机铝盐中的有机物分解形成纳米碳网络，煅烧温度为700℃-1000℃，煅烧时间为20min-40min；第二次煅烧是在空气氛围中，其煅烧温度为450℃-600℃，煅烧时间为30min-40min，使得纳米碳网络部分分解，以形成少层石墨包覆纳米级Al2O3磨料；所述有机铝盐为乳酸铝、硬脂酸铝、柠檬酸铝或醋酸铝中的一种或多种。

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