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恭喜江苏京创先进电子科技有限公司王海伟获国家专利权

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龙图腾网恭喜江苏京创先进电子科技有限公司申请的专利半导体器件处理方法、系统及半导体器件处理设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119230468B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-14发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411750752.X,技术领域涉及:H01L21/683;该发明授权半导体器件处理方法、系统及半导体器件处理设备是由王海伟;童永娟;董文豪;赵锋;孙志超设计研发完成,并于2024-12-02向国家知识产权局提交的专利申请。

半导体器件处理方法、系统及半导体器件处理设备在说明书摘要公布了:本发明揭示了半导体器件处理方法、系统及半导体器件处理设备,其中半导体器件处理方法在减薄后的半导体器件于清洗装置处完成清洗后,控制移料机器人的吸附臂移动至半导体器件的上方;然后,使所述移料机器人的吸附臂以第一速度下移到减速位置后降速并继续下移;在所述吸附臂下移的过程中,实时获取所述吸附臂的真空度及所述吸附臂上的压力传感器的压力值,并据此确定是使所述吸附臂上移后下料还是使所述吸附臂停止移动或上移并报警。本发明改变了移料机器人取料时采用固定的取料位置的惯用方式,能够有效避免由于半导体器件实际厚度与目标厚度偏差造成的无法有效吸取或半导体器件被压坏的问题,改善了移料的可靠性和安全性。

本发明授权半导体器件处理方法、系统及半导体器件处理设备在权利要求书中公布了:1.半导体器件处理方法,其特征在于,包括如下步骤:S1,在减薄后的半导体器件于清洗装置处完成清洗后,控制移料机器人的吸附臂移动至半导体器件的上方;所述吸附臂的吸附面设置有突出于所述吸附面的可形变吸附头,所述吸附面处还设置有压力传感器;S2,使所述移料机器人的吸附臂以第一速度下移到减速位置;S3,使所述移料机器人的吸附臂降速并继续下移;S4,在所述吸附臂下移的过程中,实时获取所述吸附臂的真空度及所述吸附臂上的压力传感器的压力值,并据此确定是使所述吸附臂上移后下料还是使所述吸附臂停止移动或上移并报警;当所述压力传感器的检测点的底部低于所述可形变吸附头的底部时;所述S4中,根据实时获取的所述吸附臂的真空度及所述吸附臂上的压力传感器的压力值确定所述压力传感器的压力值达到压力阈值之前,所述吸附臂的真空度是否达到真空阈值,若是,使所述吸附臂反向抬升进行下料;若否,使所述吸附臂停止移动或上移并报警;当所述压力传感器的检测点的底部与所述可形变吸附头的底部平齐时;所述S4中,实时确定所述吸附臂的真空度达到真空阈值和至少一所述压力传感器产生压力值的先后顺序;若确定在所述吸附臂的真空度达到真空阈值之前,有至少一所述压力传感器产生压力值,使所述吸附臂停止移动或上移并报警;若确定在至少一所述压力传感器产生压力之前,所述吸附臂的真空度达到真空阈值,使所述吸附臂上移后下料。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人江苏京创先进电子科技有限公司,其通讯地址为:215000 江苏省苏州市常熟市经济技术开发区海城路2号9幢;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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