恭喜三达奥克化学股份有限公司杨同勇获国家专利权
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龙图腾网恭喜三达奥克化学股份有限公司申请的专利一种去胶液及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115598944B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211211782.4，技术领域涉及：G03F7/42；该发明授权一种去胶液及其制备方法与应用是由杨同勇;朱国玉;王剑;李文瀚设计研发完成，并于2022-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种去胶液及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明属于半导体加工技术领域，本发明公开了一种去胶液及其制备方法与应用。本发明的去胶液包括以下重量份的组分：溶剂70～90份，络合剂1～5份，脱水剂5～10份，剥离助剂5～10份，清洗助剂1～3份。本发明制备的去胶液在芯片或光刻胶表面可充分铺展渗透，所有组分的协同作用加快了去胶速度且增强了去胶效果，络合剂和脱水剂的使用可避免金属腐蚀问题。
本发明授权一种去胶液及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种去胶液，其特征在于，包括以下重量份的组分：溶剂70～90份，络合剂1～5份，脱水剂5～10份，剥离助剂5～10份，清洗助剂1～3份；所述溶剂为2,2,4,6,6-五甲基庚烷、二元醇醚或二氯苯；所述二元醇醚为二乙二醇叔丁醚和或二丙二醇二甲醚；所述二氯苯为邻二氯苯和或间二氯苯；所述络合剂为四羟乙基乙二胺和或二丁基二硫代磷酸胺；所述剥离助剂为N-辛基吡咯烷酮和或三氟甲烷磺酰亚胺；所述清洗助剂为十六烷基硫醇和或十八烷基硫醇。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人三达奥克化学股份有限公司，其通讯地址为：116051 辽宁省大连市高新技术产业园区龙头分园庆龙街51号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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