恭喜南京昀光科技有限公司刘志文获国家专利权
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龙图腾网恭喜南京昀光科技有限公司申请的专利硅基显示面板及其蒸镀层的制备方法、掩膜版获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115896692B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211659294.X，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权硅基显示面板及其蒸镀层的制备方法、掩膜版是由刘志文;季渊设计研发完成，并于2022-12-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本硅基显示面板及其蒸镀层的制备方法、掩膜版在说明书摘要公布了：本发明公开了一种硅基显示面板及其蒸镀层的制备方法、掩膜版，该掩膜版用于制备硅基显示面板的蒸镀层，包括：至少一个开口部和围绕各开口部的遮挡部；遮挡部的第一表面设置有支撑结构；在平行于遮挡部的第一表面的方向上，支撑结构的尺寸小于遮挡部的尺寸；在采用掩膜版蒸镀蒸镀层时，支撑结构与硅基显示面板的硅基衬底接触。本发明的技术方案通过在遮挡部的第一表面设置支撑结构，且在平行于遮挡部的第一表面的方向上，支撑结构的尺寸小于遮挡部的尺寸，使采用该掩膜版蒸镀硅基显示面板的蒸镀层时，仅支撑结构与硅基显示面板的硅基衬底接触，从而可以减少掩膜版上附着的粉尘微粒转移到硅基衬底，进而提高硅基衬底的洁净度，提高产品性能。
本发明授权硅基显示面板及其蒸镀层的制备方法、掩膜版在权利要求书中公布了：1.一种掩膜版，用于制备硅基显示面板的蒸镀层，以提高硅基底的洁净度，其特征在于，包括：至少一个开口部和围绕各所述开口部的遮挡部；所述遮挡部的第一表面设置有支撑结构；在平行于所述遮挡部的所述第一表面的方向上，所述支撑结构的尺寸小于所述遮挡部的尺寸；在垂直于所述遮挡部的所述第一表面的方向上，所述支撑结构的高度H的取值范围为：40μm＜H＜80μm；在采用所述掩膜版蒸镀所述蒸镀层时，所述支撑结构与所述硅基显示面板的硅基衬底接触；所述支撑结构包括分散设置的多个支撑柱；当所述掩膜版包括多个所述开口部时，多个所述开口部阵列排布；所述支撑柱位于相邻两行和或相邻两列所述开口部之间。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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